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硅片相关知识简介
2018-08-21
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索比杜金泽
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硅片清洗作业指导
2018-08-21
文件编号 Q03-JS-43 清洗作业流程版本号 A/0 页码 第 1 页 共 4 页生效日期 2007 年 10 月 1 日1. 目的规范清洗车间作业流程 ,保证输出合格成品 ,特制定本办法。2. 范围清洗车间所有员工3. 具体内容3. 1.作业准备3. 1. 1.进入清洗车间须穿戴专用工作服、鞋。3. 1. 2.准备好应该准备的物品和药品。3. 1. 3.准备好各类专用工具。3. 1
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索比杜金泽
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硅片清洗方法探讨
2018-08-21
收稿日期 1999201206文章编号 1005 - 2046 199904 - 0162 - 04硅片清洗方法探讨郭运德洛阳单晶硅有限责任公司 ,河南洛阳 471009摘 要 本文介绍了几种硅片清洗的方法 ,同时对各种不同清洗方法的工作原理 、 清洗效果 、适用范围等特点进行了分析 。 不同的工艺应采用不同的清洗方法才能获得最佳效果 。关键词 硅片 ; 清洗 ;表面态中图
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硅片切割液的配制工艺研究
2018-08-21
武汉理工大学本科生毕业设计(论文)硅片切割液的配制工艺研究学院(系) 化工学院专业班级 化工 0903 班学生姓名 周五萍指导教师 朱焱学位论文原创性声明本人郑重声明所呈交的论文是本人在导师的指导下独立进行研究所取得的研究成果。除了文中特别加以标注引用的内容外,本论文不包括任何其他个人或集体已经发表或撰写的成果作品。本人完全意识到本声明的法律后果由本人承担。作者签名年 月 日学位论
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硅片英语词汇
2018-08-21
Acceptor - An element, such as boron, indium, and gallium used to create a free hole in a semiconductor. The acceptor atoms are required to have one less valence electron than the semiconductor. 受主 -
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硅片线痕、TTV的分析
2018-08-21
硅片线痕、 T T V 的 分 析分类线痕按表现形式分为杂质线痕、划伤线痕、密布线痕、错位线痕、边缘线痕等 。各种线痕产生的原因如下1 、 杂质线痕 由多晶硅锭内杂质引起, 在切片过程中无法完全去除, 导致硅片上产生相关线痕。表现形式 ( 1)线痕上有可见黑点,即杂质点。( 2)无可见杂质黑点,但相邻两硅片线痕成对,即一片中凹入,一片凸起,并处同一位置。( 3)以上两种特征都有。( 4
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硅片生产工艺
2018-08-21
硅片生产制造工艺流程1. 切方磨圆将矽单晶圆棒按尺寸要求,切割成矽单晶准方棒,并将切割后的准方棒四角,用滚磨机磨圆。2. 酸洗将检测合格的矽单晶准方棒放入配好的酸液中,除去表面杂质,使其清洁便于下道工序。3. 粘胶将清洁干净的矽单晶准方棒与工件板进行粘接。4.切片将粘好的矽单晶准方棒安装在切片机的切割工位上, 通过设定好的工艺参数, 将其切割成片。5. 清洗脱胶将切割后的矽片进行预清洗,除去表面
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硅片清洗原理与方法综述
2018-08-21
硅片清洗原理与方法综述【摘要】 文中首先就硅片清洗原理的硅片的表面状态与洁净度问题和吸附理论进行了探讨, 在硅片清洗的常用方法与技术中分析了湿法化学清洗、 干法清洗技术、束流清洗技术。【关键词】硅片清洗原理;湿法化学清洗;干法清洗技术;束流清洗技术1、引言硅片的质量, 尤其是硅抛光片的表面质量, 随着大规模集成电路的发展, 不断减小的线宽, 不断提高的集成度, 其要求也就越来越严格。 这是由于器
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索比杜金泽
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硅片热处理夹具和硅片热处理方法
2018-08-21
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硅片清洗原理与方法介绍
2018-08-21
硅片清洗原理与方法介绍1 引言硅片经过切片、倒角、研磨、表面处理、抛光、外延等不同工序加工后,表面已经受到严重的沾污, 清洗的目的就是为了去除硅片表面颗粒、 金属离子以及有机物等污染。2 硅片清洗的常用方法与技术在半导体器件生产中,大约有 20%的工序和硅片清洗有关,而不同工序的清洗要求和目的也是各不相同的,这就必须采用各种不同的清洗方法和技术手段,以达到清洗的目的。由于晶盟现有的清洗设备均为
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索比杜金泽
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