硅片清洗与制绒	2018-08-21
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	红外激光测量硅片的折射率和厚度	2018-08-21
	1 请将电子版打印出来，仔细阅读，不懂之处用笔标记上，这样才算写了预习报告。老师将根据认真程度给预习分红外激光测量硅片的折射率和厚度实验类型近代光学设计性实验实验地点实训中心 2 号楼 1 楼 2123 教室实验日期第 9-12 周（第一轮） ，每周 （例如周 五 ）节次 （例如 34 节）学生姓名 学号 手机号 Email一 . 目的要求用光波导法测量硅片的折射率和厚度。实验要求
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	硅片质量对太阳能电池性能的影响[1]	2018-08-21
	硅片质量对太阳能电池性能的影响尚德电力控股有限公司 张光春1. 引言2007年全球商业化光伏电池市场中，由单晶硅和多晶硅组成的晶体硅太阳能电池的市场份额达 87.4，是光伏市场的绝对主流产品，而且在可见的未来几年内，这种局面不会改变。1999 年 -2007 年全球商业化光伏电池市场份额硅片作为晶体硅太阳能电池的基础材料， 其质量对电池性能具有很重要的影响。 一方面， 硅片的内部缺陷和杂质会直
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	硅片生产过程详解(20180720145635)	2018-08-21
	Page 1 of 36 培训目的1、 确定硅片生产过程整个目标；2、 为工艺过程确定一典型流程；3、 描述每个工艺步骤的目的；4、 在硅片生产过程中，硅片性能的三个主要关系的确定。简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在无尘的环境中进行
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	硅片清洗技术的发展趋势	2018-08-21
	硅片清洗技术的发展趋势随着超大规模集成电路的发展、集成度的不断提高、线宽的不断减小， 对硅片表面的洁净度及表面态的要求也越来越高。 要得到高质量的半导体器件， 仅仅除去硅片表面的沾污已不再是最终的要求。 在清洗过程中造成的表面化学态、 氧化膜厚度、 表面粗糙度等已成为同样重要的参数。目前，通常应用的清洗方法是湿式化学清洗法，即利用有机溶剂、碱性溶液、酸性溶液、表面活性剂等化学试剂，配合兆声、超声
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	硅片重量	2018-08-21
	硅片规格 硅片厚度 硅片理论重量（克）0.2 11.1300.195 10.8520.19 10.5740.185 10.2960.18 10.017硅片规格 硅片厚度 硅片理论重量（克）0.2 7.2120.195 7.0310.19 6.8510.185 6.6710.18 6.4900.175 6.3100.17 6.1300.2 11.3360.195 11.0520.19 10.769
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	硅片制绒和清洗	2018-08-21
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	硅片研磨和研磨液作用的分析-看	2018-08-21
	硅片研磨和研磨液作用的分析作者 张伟 ， ZHANG Wei作者单位 河北工业大学 ,微电子研究所 ,天津 ,300130刊名 微纳电子技术英文刊名 MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY年，卷 期 2007,444被引用次数 1次参考文献 15条1. 刘玉岭 ;李薇薇 ;周建伟 微电子化学基础技术 20052. 张胜利 超精密磨削硅片表面损伤检
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	硅片术语	2018-08-21
	硅片行业术语大全Acceptor - An element, such as boron, indium, and gallium used to create a free hole in a semiconductor. The acceptor atoms are required to have one less valence electron than the semiconduct
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	硅片线痕分析	2018-08-21
	硅片线痕分析分类线痕按表现形式分为杂质线痕、划伤线痕、密布线痕、错位线痕、边缘线痕等。各种线痕产生的原因如下1、杂质线痕由多晶硅锭内杂质引起，在切片过程中无法完全去除，导致硅片上产生相关线痕。表现形式（ 1）线痕上有可见黑点，即杂质点。（ 2）无可见杂质黑点，但相邻两硅片线痕成对，即一片中凹入，一片凸起，并处同一位置。（ 3）以上两种特征都有。（ 4）一般情况下，杂质线痕比其它线痕有较高
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