硅片清洗原理与改进方法毕业论文	2018-08-21
	毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法所 属 系 太阳能科学与工程系专 业 光伏材料加工与应用技术I 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展 , 集成度的不断提高 , 线宽的不断减小 , 对硅片的质量要求也越来越高 , 特别是对硅抛光片的表面质量要求越来越严。在硅晶体管和集成电路生产中 , 几乎每道工序都有硅片清洗的问题 , 硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响 , 处理不
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 20  / 时长: 1秒  / 阅读: 398  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片线切割设备现状与发展综述	2018-08-21
	关键词硅片 线切割 钢线1、引言硅片多线切割技术是目前世界上先进的硅片切割加工方法之一，它是与传统的切割方式，如刀锯、砂轮片等不同的， 也与先进比较先进的切割技术，如 激光切割 或是内圆切割有差别。总体来讲，它是用一根高速传动的钢丝线来带动附着在其上的切割刃料高速的走动，使得与待切割硅棒进行摩擦，从而完成切割。下文将详细介绍其原理和简单工作流程。2、硅片线切割技术原理简介2.1 宏观机理从硅片
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 2  / 时长: 1秒  / 阅读: 338  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片生产培训教材(完整版)	2018-08-21
	硅片生产培训资料Page 1 of 24 培训目的1、 确定硅片生产过程整个目标；2、 为工艺过程确定一典型流程；3、 描述每个工艺步骤的目的；4、 在硅片生产过程中，硅片性能的三个主要关系的确定。简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 24  / 时长: 1秒  / 阅读: 343  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗原理与方法综述(20180720140015)	2018-08-21
	维普资讯 http//www.cqvip.com 维普资讯 http//www.cqvip.com 维普资讯 http//www.cqvip.com 维普资讯 http//www.cqvip.com 维普资讯 http//www.cqvip.com 维普资讯 http//www.cqvip.com 维普资讯 http//www.cqvip.com
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 7  / 时长: 1秒  / 阅读: 252  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗与制绒	2018-08-21
	点击查看更多硅片清洗与制绒精彩内容。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 78  / 时长: 1秒  / 阅读: 252  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	红外激光测量硅片的折射率和厚度	2018-08-21
	1 请将电子版打印出来，仔细阅读，不懂之处用笔标记上，这样才算写了预习报告。老师将根据认真程度给预习分红外激光测量硅片的折射率和厚度实验类型近代光学设计性实验实验地点实训中心 2 号楼 1 楼 2123 教室实验日期第 9-12 周（第一轮） ，每周 （例如周 五 ）节次 （例如 34 节）学生姓名 学号 手机号 Email一 . 目的要求用光波导法测量硅片的折射率和厚度。实验要求
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 3  / 时长: 1秒  / 阅读: 631  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片质量对太阳能电池性能的影响[1]	2018-08-21
	硅片质量对太阳能电池性能的影响尚德电力控股有限公司 张光春1. 引言2007年全球商业化光伏电池市场中，由单晶硅和多晶硅组成的晶体硅太阳能电池的市场份额达 87.4，是光伏市场的绝对主流产品，而且在可见的未来几年内，这种局面不会改变。1999 年 -2007 年全球商业化光伏电池市场份额硅片作为晶体硅太阳能电池的基础材料， 其质量对电池性能具有很重要的影响。 一方面， 硅片的内部缺陷和杂质会直
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 14  / 时长: 1秒  / 阅读: 285  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片生产过程详解(20180720145635)	2018-08-21
	Page 1 of 36 培训目的1、 确定硅片生产过程整个目标；2、 为工艺过程确定一典型流程；3、 描述每个工艺步骤的目的；4、 在硅片生产过程中，硅片性能的三个主要关系的确定。简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在无尘的环境中进行
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 36  / 时长: 1秒  / 阅读: 248  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗技术的发展趋势	2018-08-21
	硅片清洗技术的发展趋势随着超大规模集成电路的发展、集成度的不断提高、线宽的不断减小， 对硅片表面的洁净度及表面态的要求也越来越高。 要得到高质量的半导体器件， 仅仅除去硅片表面的沾污已不再是最终的要求。 在清洗过程中造成的表面化学态、 氧化膜厚度、 表面粗糙度等已成为同样重要的参数。目前，通常应用的清洗方法是湿式化学清洗法，即利用有机溶剂、碱性溶液、酸性溶液、表面活性剂等化学试剂，配合兆声、超声
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 3  / 时长: 1秒  / 阅读: 478  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片重量	2018-08-21
	硅片规格 硅片厚度 硅片理论重量（克）0.2 11.1300.195 10.8520.19 10.5740.185 10.2960.18 10.017硅片规格 硅片厚度 硅片理论重量（克）0.2 7.2120.195 7.0310.19 6.8510.185 6.6710.18 6.4900.175 6.3100.17 6.1300.2 11.3360.195 11.0520.19 10.769
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 1  / 时长: 1秒  / 阅读: 1459  / 下载价格: 3 金币 / 评价: