硅片制绒和清洗	2018-08-21
	点击查看更多硅片制绒和清洗精彩内容。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 29  / 时长: 1秒  / 阅读: 191  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片研磨和研磨液作用的分析-看	2018-08-21
	硅片研磨和研磨液作用的分析作者 张伟 ， ZHANG Wei作者单位 河北工业大学 ,微电子研究所 ,天津 ,300130刊名 微纳电子技术英文刊名 MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY年，卷 期 2007,444被引用次数 1次参考文献 15条1. 刘玉岭 ;李薇薇 ;周建伟 微电子化学基础技术 20052. 张胜利 超精密磨削硅片表面损伤检
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 7  / 时长: 1秒  / 阅读: 489  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片术语	2018-08-21
	硅片行业术语大全Acceptor - An element, such as boron, indium, and gallium used to create a free hole in a semiconductor. The acceptor atoms are required to have one less valence electron than the semiconduct
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 5  / 时长: 1秒  / 阅读: 451  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片线痕分析	2018-08-21
	硅片线痕分析分类线痕按表现形式分为杂质线痕、划伤线痕、密布线痕、错位线痕、边缘线痕等。各种线痕产生的原因如下1、杂质线痕由多晶硅锭内杂质引起，在切片过程中无法完全去除，导致硅片上产生相关线痕。表现形式（ 1）线痕上有可见黑点，即杂质点。（ 2）无可见杂质黑点，但相邻两硅片线痕成对，即一片中凹入，一片凸起，并处同一位置。（ 3）以上两种特征都有。（ 4）一般情况下，杂质线痕比其它线痕有较高
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 4  / 时长: 1秒  / 阅读: 426  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片生产流程	2018-08-21
	硅片生产流程小组成员 吴国栋 徐浩 王汉杰 王超简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始，最终在 10 级净空房内完成。工艺过程综述硅片加工过程包括许多步骤。所有的步骤概括为三个主要种类
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 5  / 时长: 1秒  / 阅读: 267  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗水处理的经验分享	2018-08-21
	技术电话 4000-717-999 硅片清洗水处理的经验分享一、应用范围概述电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液显像管和阴极射线管生产配料用纯水 黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片， 另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片。二、典型工艺流程预处理系
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 3  / 时长: 1秒  / 阅读: 273  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗技术	2018-08-21
	转载 半导体硅片的化学清洗技术对太阳能级硅片有借鉴作用一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后， 其表面已受到严重沾污， 一般讲硅片表面沾污大致可分在三类 A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μ m颗粒，利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μ m颗粒。 C
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 14  / 时长: 1秒  / 阅读: 317  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗及最新发展(20180720154157)	2018-08-21
	硅片清洗及最新发展 Ξ刘红艳 3 , 万关良 , 闫志瑞北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司 , 北京 100088摘要 对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、 清洗特点、 清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述。 介绍了兆声波、 臭氧、 电解离子水、 只用 HF 清洗或简化常规工艺后最后用 HF 清洗等最新的硅片清洗技术 , 指出了硅片清洗
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 6  / 时长: 1秒  / 阅读: 418  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片清洗(20180720154002)	2018-08-21
	半导体硅片 SC-2 清洗技术 1 | [8 l4 b, y { L1 清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生， 在酸性溶液中不易发生， 并具有较强的去除晶片表面金属的能力，但经 SC-1 洗后虽能去除 Cu 等金属，而晶片表面形成的自然氧化膜的附着（特别是 Al ）问题还未解决。 . v7 Q“ o“ j1 7 h1 I6 Q1 g6 X2 硅片表面经 SC-2 液洗后，表面 Si
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 8  / 时长: 1秒  / 阅读: 365  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片真空夹紧装置设计	2018-08-21
	硅片真空夹紧装置设计干蜀毅 , 孙青云 合肥工业大学 , 安徽 合肥 230009Design of M ini Oil free Vacuum Pump for the Clamp Equipment U sed for Si WaferGAN Shu yi, SUN Qing yun H efei Univer sity of T echnology, Hefei 230009, Ch
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 4  / 时长: 1秒  / 阅读: 480  / 下载价格: 3 金币 / 评价: