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  • 简介:1、购买的一批硅片, p型杂质均匀掺杂浓度为 1016/cm3,电阻率为 5 -cm。硅片清洗后进行热氧化。 在热氧化结束并去除氧化硅后, 发现硅片表层呈 n型, 而体硅仍旧保持为 p型。1)假定热氧化炉没有施主杂质污染,上述现象如何解释2) 下图给出的是在纯硅中的掺杂浓度和电阻率之间的关系。 参照该图, 说明你的上述解释是否合理。2、在 BJT中, 需要生长 1 m场氧化来实现晶体管的隔离。 为了减少杂质扩散和堆垛层错的形成,氧化在 1050 C进行。如果在一个大气压下进行湿氧化,计算所需时间。 假定抛物线系数和氧化时的压力呈线形关系, 计算在 5atm和 20atm时所需的氧化时间。3
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  • 简介:发展太阳能电池的必要性及要解决的问题摘要 对我国使用太阳能电池发电的必要性以及制备过程中遇到的一些问题进行了讨论。 在分析太阳能电池制备的基础上, 提出了发展我国太阳能光伏发电的必要性和可行性, 分析了制备太阳能电池过程中遇到的技术和环境问题。 发展太阳能电池是发展光伏发电的前提, 是解决目前我国面临的能源问题和环境问题的一个有效途径。关键词 太阳能电池;光伏发电;能源;环境0 引言当传统的燃料能源正在一天天减少时, 所产生的排放物对环境造成的危害问题也变得日益突出。并且全球大约还有 20 亿人已得不到正常的能源供应。在这个时候,整个世界都把目光投向了可再生资源,希望可以通过可再生能源来
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  • 简介:光源对于太阳能电池基本特性测量实验影响的研究作者 吴杏华 , 王庆凯 , 王殿元 , WU Xing-hua, WANG Qing-kai, WANG Dian-yuan作者单位 九江学院理学院 ,江西九江 ,332005刊名 九江学院学报英文刊名 JOURNAL OF JIUJIANG UNIVERSITY年,卷 期 2007,266参考文献 6条1. 马丁·格林 ;李秀文 ;谢鸿礼 太阳电池工作原理、工艺和系统的应用 19872. 王涛 ;王正志 微光光照强度下太阳电池应用研究 [期刊论文] -光电技术应用 2006023. 王世昌 ;刘湘生 ;
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  • 简介:http//www.kailiqingxi.com工业清洗剂都适用于哪些行业工业清洗剂都适用于哪些行业工业清洗剂主要用于哪些行业目前有很多的顾客有类型的疑问, 工业清洗剂运用越来越广泛, 在工业上使广泛用的一种清洗剂,主要用来除油污,除锈、除垢等各种用途,目前在五金制造加工业、机械行业、表面处理行业、电子工业、金属加工等等领域中,接下来给大家具体详细讲下工业清洗剂都适用于哪些行业工业清洗剂主要用于以下行业 石油 ; 化工 ;冶金 ;电力 ; 汽车 ;航天航空 ;机械制造 ;电子电器 ;金属处理 ;医疗等,接下来重点介绍几个行业第一、五金金属http//www.kailiqing
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  • 简介:多线切割工艺对研磨去除量的影响摘要 大直径硅片的研磨去除量成为评价多线切割工艺水平的关键技术指标,也有利于研磨工序单位成本的降低; 切片损伤层深度是决定全片研磨去除量的主要因素, 而切片几何参数是决定局部研磨去除量的主要因素。 通过对多线切割工艺中切片损伤层深度控制以及几何参数的控制,从而降低晶片的研磨去除量。在晶体加工过程中, 随着硅单晶尺寸的增大, 多线切割技术正被广泛应用于晶体切割工序。 线切割不会明显改善翘曲, 但是切割时硅的损耗显著减小, 同时损伤深度减小。 这进一步反馈到后续工艺, 减小了颗粒产生、 残余损伤引起的位错形成、硅片破裂等可能性 [5] 。硅切片的损伤层深度直接受晶
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  • 简介:多晶硅产品的用途与生产工艺简介2 黎展荣编写2008-03-15 1 多晶硅产品的用途与生产工艺简介讲课提纲 一、多晶硅产品的用途二、国内外多晶硅生产情况与市场分析三、多晶硅生产方法四、多晶硅生产的主要特点五、多晶硅生产的主要工艺过程讲课想要达到的目的通过介绍,希望达到以下几点目的1, 了解半导体多晶硅有关基本概念与有关名词,为今后进一步学习、交流与提高打下基础;2, 了解多晶硅的主要用途与国内外多晶硅的生产和市场情况,热爱多晶硅事业与行业;3,了解多晶硅生产方法和多晶硅生产的主要特点,加深对多晶硅生产工艺流程的初步认识;4,了解公司 3000 吨 /年多晶硅项目的主要工艺过程、工厂的
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  • 简介:1 引言目前,半导体行业中广泛使用的清洗方法仍是RCA(美国无线电公司)清洗法。但在向下一代65nm节点的迈进中,新结构的纳米器件对于清洗设备不断提出了新的挑战, 因而对硅片表面各种污染物的控制规定了纳米微粒去除的特殊要求。根据国际半导体技术发展路线图计划,当半导体器件从90nm提升到65nm工艺时,必须将清洗过程中单晶硅和氧化硅的损失量从0 .1nm减小到0 .05nm[1]。这就对新一代清洗设备和清洗技术提出了无损伤和抑制腐蚀的新工艺要求,所以研发新颖的、合适的硅片表面的纳米微粒清洗技术势在必行。目前, 最流行的新的清洗法是使用 HF/O3对硅片进行清洗 [3,4] , 该清洗法使用较
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  • 简介:高倍聚光光伏 HCPV 电池作为第三代太阳能发电技术正逐渐成为太阳能领域的新焦点经过 30 多年的发展,高倍聚光光伏 HCPV 电池作为第三代太阳能发电技术正逐渐成为太阳能领域的新焦点, 引起了行业内企业的追逐。 在日光照射较好的几个欧美国家,已通过了优惠的上网电价法,随着具有 40 转换效率的Ⅲ -V族半导体多结太阳能电池的普及和成本下降, 高倍聚光光伏电池市场进入快速增长期。 与前两代电池相比, HCPV 采用多结的砷化镓电池, 具有宽光谱吸收、 高转换效率、 良好的温度特性、 低耗能的制造过程等优点, 使它能在高倍聚焦的高温环境下仍保持较高的光电转换效率。 高倍聚光光伏系统技
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  • 简介:非晶硅薄膜太阳能电池的制备工艺流程
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