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简介：基金项目 江苏省高校科研成果产业推进工程计划项目J HZD06242硅片纳米微粒清洗洁净新技术张慧 , 成立 , 韩庆福 , 严雪萍 , 刘德林 , 徐志春 , 李俊江苏大学 电气与信息工程学院 , 江苏 镇江 212013摘要 随着半导体技术的不断发展 , 集成电路的线宽正在不断减小 , 对硅片表面质量处理的要求也就越来越高 。 传统的湿法清洗已经不能满足要求 , 故必须研发新的微粒清洗方法 。 简述了硅片表面污染物杂质的类型 、 传统的微粒湿法清洗法和干法清洗法 , 然后在此基础上分析了几种硅片制备工艺中纳米微粒的去除新技术 , 包括低温冷凝喷雾清洗工艺 , N2O 电子

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简介：光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3 ，耗费时间约占整个硅片工艺的 40～ 60。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 / 台。主要是贵在成像系统（由15～ 20 个直径为 200～ 300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于 10nm）。其折旧速度非常快， 大约 3～ 9 万人民币 / 天， 所以也称之为印钞机。 光刻部分的主要机台包括两部分 轨道机 （ Tracker ） ， 用于涂胶显影； 扫描曝光机 （ Scanning

简介：光刻一、概述光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的 4060 。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 /台。主要是贵在成像系统（由 15～ 20个直径为 200～ 300mm 的透镜组成）和定位系统（定位精度小于 10nm） 。其折旧速度非常快，大约 3～ 9 万人民币 /天，所以也称之为印钞机。光刻部分的主要机台包括两部分轨道机（ Tracker） ，用于涂胶显影；扫描曝光机（ Scanning） 。光刻工

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简介：各种不同太阳电池的优缺点分析http//news.cecb2b.com/ 来源 元器件交易网 日期 2012 年 05 月 10 日硅太阳 电池 的应用日趋广泛 , 但昂贵的原材料成为发展的瓶颈 . 薄膜太阳 电池 由于只需使用一层极薄的光电材料， 材料使用非常少。 并可使用软性衬底， 应用弹性大， 如果技术发展成熟， 其市场面将相当宽阔。 本文就迄今被人们广为关注的薄膜太阳 电池 , 即非晶硅薄膜太阳 电池 ， 微 多 晶硅薄膜太阳 电池 ， 铜铟硒薄膜太阳 电池 ， 碲化镉薄膜太阳电池， 染料敏化薄膜太阳电池和有机薄膜太阳电池的发展概况 , 技术难点和优缺点进行论述。1 引

简介：硅片工艺方面异常分析2016-08-21来源尖山股份

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简介：使用 室温溶液处理技术制备平面异质结构的钙钛矿型太阳能电池 Dianyi Liu 和 Timothy L. Kelly结合了介孔支架 , 钙钛矿光吸收剂和有机空穴传输的有机 - 无机杂化太阳能电池已经处于可加工光伏器件的前列 ; 然而 , 它们需要经过 500℃的高温烧结来形成介孔金属氧化物结构。 在这里 , 我们报告在以 CH3NH3PbI3为基的太阳能电池中使用氧化锌纳米薄膜作为电子传递层 ; 与之相比介孔二氧化钛和氧化锌层是更薄且不需要经过烧结处理。我们利用这些特点制造光电转换效率超过 10的弹性太阳能电池。 ZnO的使用也能够改进装置提高在刚性衬底上制备的电池性能。当测量的光

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简介：第 37卷 第 8期2009年 8月V o.l 37 No. 8Aug. 2009节能型输电线 /变电站研究与应用专栏 分布式电源光伏电池最大功率点跟踪方法的发展研究程启明 , 程尹曼 , 汪明媚 , 倪仁杰上海电力学院 电力 与自动化学院 , 上海 200090摘 要 在光伏发电系统中 , 光伏 电池输出特性受光照强度及环境温度影响很大 , 具有 明显的非线性特征。因此 , 为了提高光伏电池的利用效率 , 需要对光伏电池的最大功率点进行快速准确地 跟踪控制。简 要介绍了 14种常用的最大功率跟踪 方法的原理 , 说明了各种方法的 优、 缺点 , 指出 了选择某一 方法时需 要考虑的