H2O和O3对热原子层沉积Al2O3薄膜性能研究_李士正

采用热原子层沉积的方法，以三甲基铝（TMA）为铝源，配合 H2O、O3 及 H2O+O3 这 3 种不同的氧化剂制备Al2O3 薄膜并研究Al2O3 薄膜的生长、元素分布、薄膜结构和表面钝化质量随氧化剂种类和后退火工艺的变化规律。 结果表明，H2O 基的 Al2O3 薄膜具有较高的沉积速率及薄膜折射率，同时具有较低的杂质元素浓度和界面态缺陷密度；O3 基的 Al2O3 薄膜则具有较高的固定负电荷密度和较好的热稳定性。通过在 O3 工艺中加入 H2O，可有效降低Al2O3 薄膜中杂质元素浓度和界面缺陷态密度，同时保留 O3 基 Al2O3 薄膜中较高的固定负电荷密度，从而在钝化性能上兼具两者的优势。