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全部资源
硅片企业名单
2018-08-21
结果单位名 网址西安骊晶电子技术有限公司 陕西省西安市高新区新型工业园创汇路 9号晶龙实业集团有限公司 河北省宁晋县晶龙大街 16号英利绿色能源控股有限公司 河北省保定市高新区复兴中路 3055号 071051江西赛维 LDK太阳能高科技有限公司 江西省新余市高新技术开发区上海卡姆丹克太阳能科技有限公司 上海市南汇区惠南镇西门智能苑慈溪人和光伏电器有限公司 浙江省慈溪市新浦镇四塘江路 5号青
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索比杜金泽
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硅片检验培训
2018-08-21
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硅片清洗及最新发展
2018-08-21
硅片清洗及最新发展 X刘红艳 3 , 万关良 , 闫志瑞北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司 , 北京 100088摘要 对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、 清洗特点、 清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述。 介绍了兆声波、 臭氧、 电解离子水、 只用 HF 清洗或简化常规工艺后最后用 HF 清洗等最新的硅片清洗技术 , 指出了硅片清洗
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硅片清洗、刻蚀
2018-08-21
标准 RCA清洗操作流程 Standard RCA cleaning operating procedure化学溶剂 溶剂配比 清洗温度 时间1 H2SO4H2O2 SPM 41 120℃ 5 min2 D.I. H 2O 室温3 HFH 2O DHF 150 室温 1 min4 D.I. H 2O 室温5 NH4OHH2O2H2O SC1 115 70-80℃ 10
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硅片平整度知识介绍(20180720145015)
2018-08-21
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硅片力学性能及热膨胀系数的热稳定性研究(20180720151449)
2018-08-21
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硅片面积计算及相应功率(20180720151355)
2018-08-21
宋翠明设计多晶硅片 wafer type 156.75对角线 diameter 220.17798已知C known number 1.5 mm则小三角形腰为 small triangle waist 1.06 mm小三角形面积为 triangle area 0.5618 mm2多晶硅片面积为 wafer area 24568.315 mm2 245.683153 cm2硅片厚度 thic
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硅片加工技术
2018-08-21
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硅片批次信息表
2018-08-21
未检验 合格片 不合格旭阳雷迪 多晶 A级 2013-12-2 190000 190000 0 0 190000环太 多晶 A级 2013-12-2 429600 429600 0 0 429600环太 多晶 A级 2013-12-3 50600 50600 0 0 50600环太 多晶 A级 2013-12-3 11000 11000 0 0 11000环太 多晶 A级 2013-12-3 8
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硅片检验标准
2018-08-21
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