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浅谈硅片缺陷的控制 浅谈硅片缺陷的控制 浅谈硅片缺陷的控制 2018-08-21
浅谈硅片缺陷的控制【摘要】 太阳能是一种清洁、 高效和永不衰竭的新能源, 光伏发电具有安全可靠、无噪声、无污染、制约少、故障率低、维护简便等优点,近年发展势头迅猛。 硅片作为太阳能电池的核心元件, 其质量直接影响到太阳能电池的整体性能。本文介绍了硅片缺陷控制的技术措施。【关键词】硅片;缺陷控制引语在光伏产业中,硅片的质量在很大程度上影响到成品太阳能电池的短路电流、 和断路电压等参数, 决定了太阳
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 1  / 时长: 1秒  / 阅读: 331  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
计算倒角硅片的面积 计算倒角硅片的面积 计算倒角硅片的面积 2018-08-21
1 一、计算倒角硅片的面积Calculate the area of pseudo-square wafer 边长 W 125 mm 对角 D mm 倒 圆角 时面积148.5799 cm2Calculate边长 A 156 mm 对角 B 200 mm 倒 直角 时面积239.1093 cm2CalculateD W A B 2 二、计算正面栅线的遮光比例Calculate Shading S
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红外线用于检测硅片隐裂的方法 红外线用于检测硅片隐裂的方法 红外线用于检测硅片隐裂的方法 2018-08-21
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化学机械抛光中的硅片夹持技术 化学机械抛光中的硅片夹持技术 化学机械抛光中的硅片夹持技术 2018-08-21
化学机械抛光中的硅片夹持技术孙禹辉,康仁科,郭东明,金洙吉,苏建修大连理工大学机械工程学院,辽宁大连 116024 摘要 目前半导体制造技术已经进入 0. 13μm 时代, 化学机械抛光 CMP已经成为 IC 制造中不可缺少的技术。本文描述了下一代 IC 对大尺寸硅片 ≥ 300mm局部和全局平坦化精度的要求,介绍了目前工业发达国家在化学机械抛光加工中硅片夹持技术方面的研究现状,
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硅中的缺陷和硅片热处理(20180720135841) 硅中的缺陷和硅片热处理(20180720135841) 硅中的缺陷和硅片热处理(20180720135841) 2018-08-21
文章编号 1005- 20462000 04- 0171- 06收到日期 2000 04 07作者简介 闵 靖 1941 , 男 , 教授级高级工程师硅中的缺陷和硅片热处理闵 靖 , 邹子英 上海市计量测试技术研究院 , 上海 200233摘 要 本文评述了近年来着重研究的 COP、 LSTD、 FPD 和 BMD 等硅中的微缺 陷。介绍了硅片在 氢或氩气中高温
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硅片甩干 硅片甩干 硅片甩干 2018-08-21
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 5  / 时长: 1秒  / 阅读: 362  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
国家科技重大专项——“40-28nm集成电路制造用300mm硅片”项目在临港 国家科技重大专项——“40-28nm集成电路制造用300mm硅片”项目在临港 国家科技重大专项——“40-28nm集成电路制造用300mm硅片”项目在临港 2018-08-21
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硅片制造中的沾污控制 硅片制造中的沾污控制 硅片制造中的沾污控制 2018-08-21
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 20  / 时长: 1秒  / 阅读: 277  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
硅片生产培训教材(完整版)(20180720142729) 硅片生产培训教材(完整版)(20180720142729) 硅片生产培训教材(完整版)(20180720142729) 2018-08-21
硅片生产培训资料Page 1 of 26 培训目的1、 确定硅片生产过程整个目标;2、 为工艺过程确定一典型流程;3、 描述每个工艺步骤的目的;4、 在硅片生产过程中,硅片性能的三个主要关系的确定。简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始,到清洁的抛光片结束,以能够在绝好的环境中使用。期间,从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。 除了有许多工艺步骤之外,整个过程几乎都要
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硅片脱胶技术的现状及发展研究 硅片脱胶技术的现状及发展研究 硅片脱胶技术的现状及发展研究 2018-08-21
电 子 工 业 专 用 设 备Equipment for Electronic Products ManufacturingEPE( 总第 198 期 )Jul. 2011硅片脱胶技术的现状及发展研究张 峰, 司 超中国电子科技集团公司第二研究所 , 山西太原 030024摘 要 介绍了硅棒在线切割后的脱胶工艺技术 , 分析了硅片脱胶的技术发展和难点 , 通过介绍主要工艺设备的工作原理来
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