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简介:6 附件二 技术专家领域、子领域和方向分类领域 子领域 方向1 电子信息1.1 软件 1.1.1 系统软件1.1.2 嵌入式软件1.1.3 中间件1.1.4 数据库管理系统1.1.5 软件开发工具软件1.1.6 软件测试工具软件1.1.7 信息安全软件1.1.8 数据仓库及决策支持软件 (含数据仓库、联机分析、数据挖掘、决策支持等)1.1.9 CAD平台软件1.1.10 仿真软件1.1.11 中文信息处理软件(含汉字及少数民族文字的输入、输出、编辑等)1.1.12 机器翻译软件1.1.13 教育软件(含远程教育)1.1.14 财务、税务、银行、证券、保险等领域应用软件1.1.15 地理信
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简介:摘要 采用聚苯乙烯小球( 500nm) ,通过气液界面组装法,使小球在液面上形成单层有序的排列, 再将有序阵列转移到硅片上。 在电子显微镜下,可以看到小球局部的有序排列。再通过改善制备条件,如硅片亲水性, 试剂的比例, 使小球在硅片上形成大面积的有序排列。关键字 聚苯乙烯、自组装、亲水性一、 原理自组装是指特定的构造单元 如原子、 分子或胶体粒子等 通过某些非化学键作用自发地结合起来并构造成更为复杂的高级结构。 利用特定条件下单分散胶体粒子的简单自组装可以较为方便地合成出具有密堆积结构的二维或三维胶体晶体。在本文中,我们采用气液界面组装法, PS小球( 500nm) 通过铺展剂乙醇
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简介:思考题将硅单晶棒制作成硅片包括哪些工序切片可决定晶片的哪四个参数硅单晶片研磨后为何要清洗硅片表面吸附杂质的存在形态有哪些对这些形态按何种顺序进行清洗硅片研磨及清洗后为何要进行化学腐蚀腐蚀方法有哪些CMP 包括哪 2 个动力学过程控制参数有哪些集成电路制造过程中常用的 1 号、 2 号、 3 号清洗液组成是什么各有什么用途硅气相外延工艺采用的衬底不是准确的晶向, 通常偏离 ( 100) 或 ( 111) 等晶向一个小角度,为什么外延层杂质的分布主要受哪几种因素影响异质外延对衬底和外延层有什么要求比较分子束外延 MBE生长硅与气相外延( VPE)生长硅的优缺点Si
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简介:基于 PLC 的硅片清洗机电气控制系统设计题目说明及任务太阳能光伏产业的迅速发展,使得我国太阳能硅片清洗设备的发展举世瞩目,并呈现稳定增长势头。伴随着硅片的大直径化 , 器件结构的超微小化、高集成化 , 对硅片的洁净程度、表面的化学态、 微粗糙度等表面状态的要求越来越高, 主流工艺已经在从 90nm向 65nm过渡。太阳能电池板铝边框冲孔模设计高集成化的器件要求硅片清洗必须减少给硅片表面带来的破坏和损伤 , 减少溶液本身或工艺过程中带来的玷污。 而太阳能清洗设备也正向着小型化、 非盒式化及一次完成化方向发展 , 以减少工艺过程中的玷污 , 满足 90nm乃至 65nm级器件工艺的要求。这无论
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简介:54 2016年 1月上 第 01期 总第 229期工艺设计改造及检测检修 China Science 使用不同的底层细栅线银浆时 , 主栅焊接拉力值差异明显 , 测试表明细栅线对于主栅焊接拉力有一定的影响。【关键词】 晶体硅太阳能电池 二次印刷 细栅线 主栅焊接拉力【 Abstract 】 In this paper, we studied the crystalline silicon solar cells in the double printing fine gate lines and different underlying fine gate lines sil
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