Archers Ins新型TCO设备应用前景展望update（无锡异质结论坛）.pptx

精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS 精曜科技 Enabling Innovation 新型 TCO镀膜 设备在光伏产业应用展望 （ 2019年 3月无锡论坛） 精曜 科技 闫峰 2019.3.20 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 精曜科技简介 2 成立： 2008年 8月 12日，注册于英属开曼群岛 主营业务： 经过 10年的 精進 发展，精曜公司已成长 为一家全球重要的 真空镀膜 设备 公司； 公司有自主设备开发有力，主要产品包括 PECVD设备、 RPD设备、 LPCVD设备、自动化设备 等； 业务拓展领域包括太阳能电池 、平板显示、 IC等产业 ，并为相关产 业提供关键 生产 设备。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 精曜设备应用于太阳能技术的领域 3 异质 结 •PECVD •RPD 铜铟 镓锡 •LPCVD 钙钛 矿 •RPD •LPCVD 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 6年来市场业绩 4 太阳能电池 技术种类 向相关市场提 供的设备 工艺站点 数量 量产效率 异质结 RPD TCO 4 ＞ 23% PECVD 非晶硅层 2 ＞ 23% 铜铟镓锡 LPCVD TCO 21 17% 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 新型镀 膜设备 —— RPD 5 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 传统 TCO技术 —— Sputter原理 6 Ar气在高电压下电离产生 Ar+ Ar+受到电场与磁场引导 Ar+打到靶材上 靶材原子下落 沉积在衬底上 特点  工艺温度高（ 150度以上）  沉积速率较慢  对非晶硅轰击较强  薄膜结晶度低，粗糙度较高  薄膜透过率较低，电阻率高 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 新型 TCO技术 —— RPD原理 7 等离子体枪中产生 Ar+ Ar+进入到生长腔室 磁场引导 Ar+打到靶材上 靶材升华 再沉积在衬底上 优点  工艺温度低（常温）  沉积速率快  对非晶硅轰击弱  薄膜结晶度高，粗糙度低  薄膜透过率高，电阻率低 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD vs Sputter 8 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 1： 低 离子轰击 9 RPD SPT Ref. to the paper of Pf. Sugai of Nagoya Univ. *Low ion energy prevent a-Si/TCO interface from bombardment damage 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 2：优异的结晶特性 10 RPD Ra, 0.7nm SPT Ra, 2nm Ref. to the paper of Pf. Shigesato. *RPD gives strong crystalline prefer orientation and smooth surface 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 11 mobility80 cm2/Vs High mobility and low IR absorption RPD的 优点 3： 优异短路电流（基于 IWO) 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 3：优异短路电流（基于 ICO) 12 mobility130 cm2/Vs High mobility and low IR absorption Eiji Kobayashi and Yoshimi Watabe, 29th EuPVSEC σ =neμ ;μ ↑ -n↓ λ P=C/(ne2/m*ɛ0)1/2; n↓ -λ P↑ RPD SPT 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 13 公司 效率 国家 面积（ cm2） TCO 沉积技术 松下 24.70% 日本 100,厚度 98um IWO RPD kaneka 24.20% 日本 171 IOH RPD CIC 24.10% 日本 156单晶 IWO/ICO RPD 晋能 24% 中国 156单晶 IWO RPD AUO 23.10% 中国台湾 240 IWO RPD 赛昂 23.10% USA 240 IOH Sputtter 东芝 EC 23.40% 日本 240 IOH Sputter 上澎 待补充 中国 156单晶 IWO Sputter MB 22.80% 德国 240 ITO Sputter CSEM 22.80% 欧洲 240 ITO Sputter CEA-INES 22.80% 欧洲 229 ITO/IOH Sputter EPFL 22.40% 欧洲 4 ITO Sputter 市场上有关 HJT电池 TCO设备使用 情况 注：此页内容均来不同时期公开发表的资料，然因整理仓促，个别数据可能有些许出入，业内同仁可协 助修正。 无论是 在实验开发 ， 或是在批量生产中 ， 因 TCO站采用不同 的设备和工艺 ， 异 质结 电池实验效率 或量产效率均有着 明显差异 。 从国内外研发机构 和电池厂商发表的 数据结果看 ， RPD 制备下的异质结电 池总体比 PVD约有 0.5 ~1%的效率优 势 。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD vs. PVD on cells performance  2018年某国内客户量产数据统计， RPD比较传统 PVD设备可提高 0.4%的 绝对值 效率  目前 RPD站的工艺开发尚处于初级阶段，后续提升空间较大 RPD vs. sputter 电池对比 (基于 ITO与 IWO) sputter RPD RPD gain (%) Isc a a+0.15A 1.59% Voc b b+2mV 0.27% FF c c+0.05 0.06% Eff d d+0.4% 1.83% 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 精曜 RPD系统 (反应式等离子镀膜设备 ) Item Standard (2 Guns) tray size 1140 mm x1290 mm Wafers/tray 35 pcs ( 5 x7) Cycle time 48 secs UPH 2625 pcs/hr Dimensions 6.2 m x 12 m x 2.2 m LC BC1 TR1 TR2 TR3 BC2 ULC  RPD设备已经 过 10余年 的量产验证  Panasonic 1GW HJT全部使用 RPD镀膜设备  住友重工 授权 精曜 全球制造与销售 15 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 16 RPD和 PVD的电性能对比 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 精 曜 RPD设备 - 高产品良率 量产良率稳定在 98%以上，平均 98.5%以上。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com RPD與 PVD量产 成本 比較 2018测算模型 PVD RPD RPD 电池效率 22.5% 23.0% 23.0% 组件成本（元 /瓦） 2.18 2.13 2.13 组件功率（瓦） 317 324 324 售价（元 /瓦） 2.5 2.5 2.6 毛利 12.68% 17.64% 22.35% 电池产能 (MW) 97.86 100 100 组件产能 (MW) 94.93 97.00 97.00 总收益（亿元） 2.37 2.43 2.52 毛利（亿元） 0.30 0.43 0.56 100MW RPD设备 价差 ， 约在 一年 内 回收 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 产业合作促进技术进一步升级 19 设备产能提 升及附助技 术精进 提升自动化 设备匹配度， 满足高产能 需要 靶材成本降 低和靶材技 术升级 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar Summary  RPD工作原理采用高密度低能量离子束，而非高电压动能驱动。 RPD制备下，离子轰击 能量 80 cm2/Vs， 优于 PVD  RPD制备下，低 自由载子吸收 确保有 高的长波 长穿透率  RPD量产中比较 传统 sputter设备可提高 0.4%的绝对值效率（基 于溅射 ITO)  RPD设备 及工艺的 改善 空间大 ， 将可进一步 提高产能，降低生 产成本 精 曜 RPD 帮助客户 赢在 高效率、低成本的起跑线 20  RPD与 PVD相比 ， 属于 HJT电池 生产 TCO站的跨 跃性升级 技术 ， 其 可帮助 HJT拉大与 PERC、 Topcon等 技 术的效率差距 ， 保持 HJT电池在效率上的绝对领先 性 ， 提高 HJT电池组件的综合性价比和市场活力 。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 谢谢 ！ 21