10001505_薄硅太阳能电池的性能研究
薄硅太阳能电池的电性能研究 何仁 1* 黄志平 1 韦德远 1 延小鹏 1 许颖 1 1 河北大学 物理科学与技术学院 光伏技术协同创新中心 摘要:本文研究了 P 型单晶硅(p-c-Si)在不同厚度状况下光吸收和扩散后的电学性能。 以 PC1D 软件对不同厚度硅片进行模拟,分析不同衬底厚度对电池性能的影响。利用酸湿法腐 蚀将 190 μm 原始单晶硅片进行减薄,测试不同厚度硅片的透射反射谱。经辊式陶瓷扩散炉扩 散后,通过 KOH 溶液去除富磷层。采用 Implied-Voc 对不同厚度扩散片进行少子寿命与开路电 压测试,分析表明薄硅片具有更高的开路电压。 关键词:晶体硅;PC1D;少子寿命;Implied-V oc 研究背景:晶体硅太阳能电池由于其性能稳定、原料储量丰富,至今仍在市场上占据主导 地位[1],为了实现 “十三五规划 ”平价上网的目标,进一步降低电池制造成本与提升性能依然是 一重要课题。近年来,随着电池制造技术与手段的提升,晶体硅太阳能电池的衬底厚度可以降 低到了几百微米甚至几微米[2]。因此,薄硅电池凭借其轻型化、低成本、以及产品应用范围广 等特点,成为新的研究热点,电池厚度减薄至大约 100 μm 具有柔性,能应用于汽车,窗户玻 璃,军用帐篷,便携式移动电源等方面。Wolf 曾预言晶硅电池最优的厚度应该为 50-150 μm, 最高效率可达到为 25 %[3],理论计算电池最优的厚度应该为 50-150 μm。当前 50μm 厚的晶硅 电池效率已经达到 19.1 %[4, 5],与晶硅电池和 IBC 电池的最高效率 24.7 %和 26.6 %还有一定 的差距[6, 7],但其拥有成本优势,柔性特点在使用中也相对灵活,所以薄硅电池仍值得去研究 [5, 8]。 实验核心内容:晶硅材料对光谱的吸收截止波长约 1100 nm,当波长小于 800 nm 时,光波 在极短的时间内被快速吸收,且吸收深度小于 10.0 μm。当波长在 800-1000 nm 范围内,吸收深 度为 10-100 μm,吸收程度适中[9]。针对波长 1000 nm 以上的长波,基本透过电池难以被吸收, 通常采用背面反射结构[10]来帮助吸收。传统的晶硅太阳电池正面采用陷光的金字塔或倒金字 塔结构[11],最高可使电池片体内的光程增加到 4 n2[12]( Lambert 极限,其中 n 为折射率,对 于晶硅材料而言,4 n2 ≈ 50),进而使其吸光效果显著增强。薄硅电池尽管在理论上降低了长波 响应,但通过改变背面结构,长波响应可以得到改善。因而,对薄硅电池的研究以及逐步推向 产业化具有一定的价值。 实验过程:选用 CZ 生长、电阻率为 1-3 Ω cm,厚度为 190 μm,晶向(100)和面积为 44cm2 的 P 型金刚线切割的硅片。首先将硅片置于硝酸和氢氟酸的混合溶液中减薄至厚度为 60-180 μm,整个过程反应液水浴温度维持在 10 °C;随后将硅片用 10 %的 HF 溶液漂洗至表面 疏水,再进行小股 DI 水清洗以及氮气吹干。将预先所配置浓度为 3%的磷酸溶液,通过超声雾 化装置涂敷至硅片表面,时间为 3 min。雾化涂敷后在 100 ℃条件下烘干,之后立即放入辊式 扩散炉进行扩散,条件为 850 °C、20 min。扩散后采用 10 %的 HF 去除表面磷硅玻璃(PSG) , 并测量其导电类型,最后将硅片置于 7.3 wt% KOH 溶液中调整腐蚀时间,直至方块电阻上升至 100 Ω/左右。 结果与讨论: 图 1 为柔性太阳能电池与减薄硅片图。图 2 为 PC1D 软件模拟下的不同衬底厚度电池的性 能参数,模拟条件为:P 型单晶衬底,电阻率 2 Ωcm,面积 236.8 cm2,发射极为 N 型掺杂浓度 为 21020 cm-3,结深 0.35 μm,方阻 100 Ω/。随着厚度的降低,开路电压(V oc)先升高后略微 下降,且在 100 μm 达到最大值,但电池的转换效率(PCE) 、短路电流(I sc)却一直下降,这 是由于当硅片厚度减小过程中,去除了表面损伤层的同时,少数载流子更容易在表面进行复合, 更薄的池其表面复合相对于体内复合而言具有更为显著的影响,有效少子寿命公式[13]如下 (1)1efbs 其中 , , 分别是是硅片的有效少数载流子寿命,体复合寿命,表面复合寿命。又efbs 1/ 正比于 2S/W,其中 S 为晶硅电池表面少数载流子的复合速率,W 为硅片的厚度。s 图 1 柔性太阳能电池与减薄硅片图 4080120160632.5.063.54.063.5 Voc (m) Thicknes (m) 4080120160767.8.08.2.4 Isc(A)Thicknes (m) 408012016079.6.80.8.20.48.6 F (%) Thicknes (m) 408012016020.521.021.52.0 Ef (%) Thicknes (m) (a) (b)(d)(c) 图 2 PC1D 模拟薄硅太阳能电池的性能参数: (a) Voc,(b) I sc,(c) FF,(d) PCE 图 3 为不同厚度的 p-c-Si 的光学性能。其中(a)为反射光谱, (b)为透射光谱以及(c) 为吸收光谱。由图 3(a)可知,光波长在 300-400 nm 时,不同厚度的硅片都有较大的反射率 偏差;在 600-800 nm 时各厚度梯度的反射率差异较小;当波长大于 900 nm 时随着衬底厚度降 低,反射率逐渐增大,这是由于硅片去重的增加表面更趋于平整,反射率增大。如图所示,透 射率在 800-1000 nm 光波范围逐渐增大,厚度越薄,透射率越严重,这与前文所描述的吸收深 度理论相符合。图 3(c)为吸收光谱曲线,在波长为 360 nm 左右有一个波动,证明了晶体硅 对紫外光和可见光吸收有界线。在波长大于 800 nm 情况下,p-c-Si 的吸收率逐渐减小,在光波 长在 1100 nm 达到最小值。实验结果表明硅片在短波和中长波均具有较高的吸收率,长波吸收 较弱,薄硅片在光波长 800 nm 以后才出现明显的吸收劣势,因此综合图 3(a)和 3(b) ,利用 反射结构增加长波的吸收是改善电池光学吸收的重要手段。 40608010253054050 Reflction (%)Wavelngth (m) 60 m8 1 20 4 m16 80 4060801010230450 Transmitance (%)Wavelngth (m) 60m8 1 20 4m16 80 4060801020406080 Absorptin (%)Wavelngth (m) 60m8 1 20 4 m16 80 (a (b(c) 图 3 未扩散前的(a)反射谱,(b) 透射谱, (c)吸收谱 图 4 为经辊式陶瓷扩散炉扩散后电池片的电学性能。如图 4(a)所示少子寿命随硅片变厚 而逐渐增大,但普遍较低。推测原因是原始扩散片,表面复合较大导致少数载流子寿命短,针 对这一现象采取了双面钝化,少子寿命得到了大幅度的提升,如图 4(b)所示,但厚度较薄的 硅片少子寿命相对较低。如图 4(d)所示,钝化后的 Implied-Voc 也得到明显的提升,薄硅片具 有更高的理想开路电压。这是由于不同厚度的硅片扩散后,具有相近的结区复合,非结区的体 复合会随着厚度的增加而增大,表现为饱和电流密度 J0随之减小,因此薄硅片具有更高的开路 电压。如公式(2)所示: (2)0lnscOCkTVq 其中 Voc为开路电压,n 为二极管理想因子,k 为玻尔兹曼常数,T 为温度,q 为电子电量, Jsc短路电流密度, J0暗态饱和电流密度。 (a) (b)60810214061804812620 Thicknes(m)Lifetm ( s) 60810214061804485256with pasivtonThicknes (m) Lifetm ( s)(c) (d) 60810214061805780590560 Thicknes(m)ImpliedVoc(m 608102140618026304650with pasivtonThicknes (m) Implied-Voc (m 图 4 扩散后电池片的少子寿命:(a)未钝化, (b)钝化后 扩散后电池片的 Implied-Voc:( c)未钝化, (d)钝化后 结论: 本文将原始 190 μm 单晶 P 型片进行减薄,其不同厚度表现为不同的光吸收率,厚度越薄, 长波响应越差。扩散后的硅片少子寿命随厚度的增加呈现增大的趋势,但变化范围较小。经双 面钝化后,表面复合降低,少子寿命明显提升,有效少子寿命主要由体寿命决定。厚度的增加 体饱和电流也随之增大,因而薄硅片 Implied-Voc 更大。相信经背表面反射结构的设计后,长波 响应可明显增加,电池性能将进一步提高,结合其本身柔性、轻巧等特点,薄硅电池在市场上 有更为广泛的应用价值。 参考文献: [1] Andrew Blakers, Ngwe Zin, Keith R,et al. High Efficiency Silicon Solar Cells. Energy Procedia 2013,33,1-10 [2] Anastassios Mavrokefalos, Sang Eon Han, Efficient Light Trapping in Inverted Nanopyramid Thin Crystalline Silicon Membranes for Solar Cell Applications, Nano Lett.2012, 12, 2792−2796 [3] Wolf M. Updating the limit efficiency of silicon solar cells[J]. IEEE Trans. Electron Devices, vol. ED-27, no. 4, pp. 751–760,Apr. 1980 [4] Green M A, Zhao J, Wang A, Wenham S R. Progress and outlook for high-efficiency crystalline silicon solar cells [J]. Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 2001, 61: 9-16 [5] Petermann J H, Zielke D, Schmidt J, et al. 19%-efficient and 43μm-thick crystalline Si solar cell from layer transfer using porous silicon [J]. Prog. Photovolt: Res. Appl, 2012, 0:1-5 [6] Zhao, Wang A and Green M A. 24.5% Efficiency Silicon PERT Cells on MCZ Substrates and 24.7% Efficiency PERL Cells on FZ Substrates [J]. Prog. Photovolt: Res. Appl, 1999, 7(1):471-474 [7] Kunta Yoshikawa, Wataru Yoshida, Toru Irie, Hayato Kawasaki,et al. Exceeding conversion efficiency of 26% by heterojunction interdigitated back contact solar cell with thinfilm Si technology. Solar Energy Materials and Solar Cells 2017,173,37–42 [8] Reuter M, Brendle W, Tobail O, et al. 50 μm thin solar cells with 17.0% efficiency [J].Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 2009, 93:704-706 [9] R. Santbergen, R.J.C. van Zolingen. The absorption factor of crystalline silicon PV cells:A nμmerical and experimental study. Solar Energy Materials & Solar Cells, 92 (2008) 432–444 [10] Feng Zhan,Zhipeng Li,Xiaoming Shen,Huan He,et al. Design Multilayer Antireflection Coatings for Terrestrial Solar Cells. The Scientific World Journal .2014, 265351,5. [11] Ye Jiang, Honglie Shen, Tian Pu ,et al. High efficiency multi-crystalline silicon solar cell with inverted pyramid nanostructure. Solar Energy 2017,142, 91–96 [12] Sang Eon Han, and Gang Chen. Toward the Lambertian Limit of Light Trapping in Thin Nanostructured Silicon Solar Cells. Nano Lett.2010,10, 4692–4696. [13] Henner Kampwerth. Measurement of Carrier Lifetime Surface Recombination Velocity and Emitter Recombination Parameters. Photovoltaic Solar Energy: From Fundamentals to Applications. Published 2017 by John Wiley & Sons, Ltd 作者简介: 何仁,男,河北大学硕士研究生,研究方向为薄硅太阳能电池的研究。E- mail:18801124046@163.com