扩散前的表面处理

硅片扩散前的表面准备硅片扩散前的表面准备 邵爱军邵爱军 2005年年 11月月 1 概概 述述 形成起伏不平的绒面，增加硅片对 太阳光的吸收 去除硅片表面的机械损伤层 清除表面油污和金属杂质 硅片表面处理的目的： 2 概述：硅片表面的机械损伤层概述：硅片表面的机械损伤层 （一）硅锭的铸造过程（一）硅锭的铸造过程 单晶硅 多晶硅 3 概述：硅片表面的机械损伤层概述：硅片表面的机械损伤层 （二）多线切割（二）多线切割 4 概述：硅片表面的机械损伤层概述：硅片表面的机械损伤层 （三）机械损伤层（三）机械损伤层 硅片 机械损伤层（ 10微米） 5 概述：金属杂质对电池性能的影响概述：金属杂质对电池性能的影响 6 概述：表面织构化概述：表面织构化 单晶硅片表面的 金字塔状绒面 单晶硅片表面反射率 7 化学腐蚀的原理化学腐蚀的原理 ü 热的 NaOH溶液去除硅片表面机械损伤层： ü HF去除硅片表面氧化层： ü HCl去除硅片表面金属杂质： 盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与 Pt 2+、 Au 3+、 Ag +、 Cu +、 Cd 2+、 Hg 2+等金属离子形成可溶于水的络合物。 8 注意事项 w 在工序 1中氢氧化钠溶液与硅片反应时 会有碱蒸气产生，故设备运行时请关 闭玻璃门。 w 盐酸是挥发性强酸，不要去闻其味道 w 氢氟酸会腐蚀玻璃，故不与玻璃器械 接触，也不要去闻氢氟酸的味道。 w 如果酸或碱不小心溅入眼内或溅到脸 上，请立即打开洗脸洗眼池上盖冲洗 。 9 注意事项注意事项 NaOH、 HCl、 HF都是强腐蚀性的化学药品，其 固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、 呼吸道，所以操作人员要按照规定穿戴防护服、 防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套。一旦有化学 试剂伤害了员工的身体，马上用纯水冲洗 30分钟， 送医院就医。 10