多晶氧化硅钝化薄层在高效晶硅电池应用及制备前景

技术总结： 本报告介绍了晶硅高效太阳电池采用背面多晶硅氧化层钝化技术实验室进展，该技术可以兼容现有的产线，提供了一些工业化可行的制造过程，并介绍了PECVD工业化设备发展情况。