N型电池类型与晶体制备方法的研究进展
N 型电池类型与晶体制备方法的研究进展2016-09-28 摩尔光伏摘要:基于 N 型电池的机遇与技术工艺路线、成本的调查,了解现有主要 N 型电池厂家的现状, 分析 N 型单晶硅的现有与潜在需求; 根据 2009 — 2014 年间关于 N 型单晶硅片的制作经验,分析 N 型单晶硅材料的品质、制造技术与成本之间的关系;分析 N 型硅片与电池的发展方向。1N 型电池1.1N 型电池的优势众所周知,相比于现在被普及应用的掺硼 P 型晶体硅, N 型晶体硅是一种更优秀的电池衬底材料 [1] 。 被公认的优势主要体现在以下几方面: 1) N 型晶体硅材料有更高的少数载流子寿命, 且可以承受更高浓度的金属杂质或缺陷等复合中心的影响。这主要是因为 N 型的少数载流子为空穴,大多数杂质原子金属对空穴的俘获截面小于 P 型少子电子。2) N 型晶体硅可以尽可能的减少硼的浓度,从而可以避免 B-O 复合体的形成。不仅可以提高硅材料的少子寿命,同时在电池中不会出现光致衰减。3) N 型晶硅电池被认为有更好的弱光效应。4)相同浓度的掺杂, N 型硅材料有更高的导电率。5) N 型电池更趋向于应用更薄的硅片,这与硅片的发展趋势是相同的。事实上 1954 年在贝尔实验室被发明的第 1 片太阳能电池片,就是以 N 型硅为衬底制作的。尽管如此,但直到 20 世纪 80 年代,主要电池片的研究与发展都是基于 P 型硅衬底的。其原因是,当时太阳能电池的主要工业应用是在卫星或宇宙飞船上,太空中的强宇宙射线对 N 型电池片造成衰减。地面上的电池应用显然不存在宇宙射线的辐射,因此 N 型电池越来越受青睐,根据InternationalTechnologyRoadmapforPhotovoltaics 预测,到 2015 年时 N型硅单晶电池将占据 30% 的硅单晶电池的比例。最近报道的 Panasonic 公司的大面积 HIT 电池以 24.7% 的效率打破了世界记录。1.2N 型电池的技术路线分析1.2.1N 型电池分类现行市场和工业研究平台上的 N 型硅电池工艺与技术很多 [1-3] ,从结构上上可以归类为以下 3 种 [4] 。 1) 硼前发射极与普通栅线的结构。忽略细节差异,该工艺大体上与普通 P 型电池工序相通, 只是发射极扩散成 P+从而形成 P 型发射极。如图 1 所示, N 型电池市场上的英利 PANDA 与三洋 HIT 电池均属于此列,只是扩散、钝化等工艺不同。2) 背发射极与普通栅线的结构。 利用铝背场与 N 型基体构成 PN 结内电场,形成电池结构。如图 2 所示,大致上可以理解为与现行 P 型电池工艺相同。3) 背发射极与全背电极的结构。如图 3 所示, IBC 电池的背表面由硼扩散p++ 区域和磷扩散 n++ 区域交错分布,表面覆盖 SiO2 钝化介质膜, p 型和 n型金属电极透过 SiO2 介质膜上的孔槽与硅基体接触。 如 Sunpower 公司的 IBC电池可以归为该类型。1.2.2 不同 N 型电池结构优势与局限性分析与对比结构上分析主要对比 2 点: 1)前发射极与背发射极的对比; 2)全背接触与普通 H 形状栅线接触电极的对比。1.2.2.1 前发射极与背发射极的对比当发射极在背面时, 电池正面被光激发的载流子需要穿越一个硅片的厚度才能达到 PN 结区,因此被发射极的电池需要应用更高少子寿命的硅晶体做衬底。中山大学的杨灼坚等用 PC1D 软件模拟了厚度 200 μ m 、体电阻率 3Ω · cm的硅片为衬底的电池(见图 4),结果表明,除表面复合速度(钝化工艺)以及方阻 (扩散工艺) 等对效率影响明显之外, 背发射极的电池对衬底材料的体少子寿命更为敏感。当少子寿命从 1000 μ s 减少到 100 μ s 时,电池绝对效率降低了4%(前发射极降低仅为 1.5% )。值得注意的是,如果硅片厚度降低,对背发射极的结构的电池是有好处的,而这与硅片更薄的发展趋势相合。1.2.2.2 全背接触与普通 H 形状栅线接触电极对比从结构上分析, 全背接触电极的电池正面没有电极覆盖, 可以最大面积的吸收太阳光提高短路电流, 也可以实现更好的钝化与陷光效果; 此外, 由于电极在背面,不带来遮光的影响,可以降低金属电极的串联电阻。如 Sunpower 公司的 IBC 电池,最高效率达到了 24.2% 。因为背部可以设计为栅线结构从而可以吸收阳光, H 形状的普通栅线电极的一个优势是可以设计成双面电池。如英利的 Panda 电池与 Sanyo 公司的 HIT电池,最新报道 Panasonic 公司的 HIT 电池效率达到了 24.8% 。不过这 2 种接触式的优劣并非那么绝对,如采用 MWT 技术的类似于普通栅线电池即有背接触电极的优势,而 Sunpower 公司最新研究 generation3 的IBC 电池也有部分双面电池的效果(如图 5 和图 6 所示)。1.2.3 市场上的主要 N 型电池与技术介绍市场上的 N 型电池片供应商主要有 Sunpower ( IBC)、 Sanyo ( HIT)以及 Yingli ( PANDA )这 3 家,分别代表了已经商业化的 3 种电池技术:集成背接触被发射极、前发射的极异质结、热扩散的前发射极 N 型电池技术。如前所述, Sunpower 公司的 IBC 电池技术优势在于其正表面可以更好的吸收阳光并更好的被钝化。报导的 GENⅢ电池(图 6)对比 GENⅡ(图 3),有更高的效率和更低的成本。 不同之处主要有: 优化了前表面场的扩散与钝化效果; 加大了背面电极间距, 从而使间隙处可以吸收阳光, 部分地实现了双面电池的效果; 优化扩散增加了背面发射极的复合等。 从而提高了开路电压 (达 730mV ) ,使电池平均效率提高到 23.6% ,最高达 24.2% 。该报导也指出, Gen Ⅲ电池效率与硅片少子寿命关系极为密切,当衬底少子降低到 2ms 以下时,电池效率降低至 23% 以下。相比 IBC 需要局部重掺局部氧化的极精细的工序, HIT 电池工艺更简易一些。除此之外,其优势主要有:低温的(扩散与钝化)工艺可以有效减少对硅片材料性能的影响;异质结的 α -Si 可以很好的钝化电池表面;而且其前后表面场可以用相同的工艺(更改气体)制造;其特殊的栅线结构还可以制作为双面电池;此外 HIT 电池还有更好的高温特性。有报道指出 Panasonic 的双面 HIT 电池效率高达 24.7% 。Panda 电池的最大优势在于其工艺与普通 P 型电池相似,因此制造成本都较低。 采用了硼前发射极 (管式扩散) , 磷背场, 双面丝印栅线电极, SiOx/SiNx :H 堆叠以及氧化铝的硼发射极钝化, 优化的 P 型发射区的金属化等技术。 Panda电池的另一个优势是其设备可以在现有 P 型电池线上进行改造,在目前的市场行情下,在投资成本上会有不小的优势。 Panda 的发展方向是与 MWT 技术相结合, 有报导 [6] 指出 MWT 技术提高了 Panda 电池 0.35% 的绝对效率。 目前的效率已经做到 20% ,其 2013 年的目标是 21% 。2N 型单晶制备因为 N 型少子对金属杂质的更高容忍力,铸锭 N 型多晶同样受到一些研究者的重视,尤其是在应用 UMG 与较低纯度硅材料的晶硅电池方面。个人认为,与此密切相关的研究热点可能还有补偿硅材料与电池效率的关系、 超薄硅片的 N型电池优势等方面。综合目前的 N 型电池制造技术与未来发展趋势,将 CZ 法 N 型单晶制造技术分类为 3 种(见表 1): 1)普通 CZ 制造方式,与普通 P 型单晶想同的制造方法; 2)改进的 CZ 制造法,通过掺杂补偿控制电阻率分布以及热场改动控制金属杂质扩散; 3)连续直拉法 CCZ,连续加料的单晶制造工艺。3 结论1) N 型晶体硅电池的优势明显,市场预测在最近会有强势增长,特别是 N型单晶。2)市场上的 N 型晶硅电池主要有 Sunpower 公司的 BIC、 Sanyo 公司为代表的 HIT、英利公司的 Panda 。 BIC 电池依旧有着产线整体高效的优势, HIT电池创造了最高效率的记录, Panda 电池却有着更好的成本优势。考虑到技术与设备改造的优势, 猜测国内将以 ECN 与英利公司结合开发的 Panda 电池类似技术为主,产线逐渐由 P 型转为 N 型。3) CCZ 是制造 N 型单晶硅的发展方向, 其研究需要高水平的设备开发能力与晶体生长知识。4) N 型多晶硅与电池的制造,同样有待研究。参考文献[1] Cousins P, Smith D, Luan H-C, et al. Gen III: improved performance at lower cost [C]//35th IEEE Photovoltaic Specialist Conference. Hawaii, USA: ECN Solar Energy, 2010: 823-826.[2] Kinoshita T, Fujishima D, Yano A, et al. The approaches for high efficiency HIT solar cell with very thin( < 100% μ m) silicon wafer over 23% [C]//Proceedings, 26th European Photovoltaic Solar Energy Conference. Hamburg, Germany: European Environment Agency, 2011: 871-874.[3] Benick J, Hoex B, van de Sanden M C M, et al. High efficiency n-type Si solar cells on Al2O3-passivated boron emitter[J].ApplPhysLett, 2008, 92:253504.[4] 杨灼坚 , 沈辉 . n 型晶体硅太阳电池最新研究进展的分析与评估 [J]. 材料导报 , 2010, 24(8): 126-130.[5] 田东 . n 型硅太阳能电池 [J]. 新技术新工艺 , 2006(3): 61-62.[6] Zhao Wenchao, Wang Jianming, Shen Yanlong, et al. 0.35%Absolute Efficiency Gain Bifacial N-type Si Solar cells IndustrialMetal Wrap Through Technology[C]//38th IEEE PhotovoltaicSpecialist Conference. Austin, USA: ECN Solar Energy,2012.孙李媛 1, 刘海 2, 刘林艳 2, 罗成龙 1 , 任舒平 31. 江西省科学院能源研究所; 2. 江西赛维 LDK 太阳能有限公司; 3. 江西省科学院,来源:能源研究与管理猜你喜欢1.EL 测试在晶硅电池及组件质量控制中的应用2.高效超薄多晶硅片生产中的若干关键技术3.APCVD 技术在晶硅太阳电池中的应用研究阅读 275 2 投诉