光刻板制作工艺	2018-08-15
	光刻工艺 4---- 掩膜板 /光罩xixi78 发表于 2008-5-06 1956 来源 半导体技术天地掩膜板 / 光罩（ Photo Mask/Reticle ）硅片上的电路元件图形都来自于版图，因此掩膜板的质量在光刻工艺中的扮演着非常重要的角色。1、掩膜板的分类光掩膜板（ Photo Mask ）包含了整个硅片的芯片图形特征，进行 1 1 图形复制。这种掩膜板用于比较老
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	光伏行业基础知识	2018-08-15
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	光刻工艺简要流程介绍	2018-08-15
	光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3 ，耗费时间约占整个硅片工艺的 40～ 60。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 / 台。主要是贵在成像系统（由15～ 20 个直径为 200～ 300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于 10nm）。
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	硅片上电镀铅锡合金工艺	2018-08-15
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	硅片-电池片流程	2018-08-15
	电池片流程1、 车间段位构成WHQ 硅片为太阳能电池片的载体， 硅片的质量决定了电池片的转换效率。 而该工序则是对硅片的来料检测，主要是包括厚度， TTV，电阻率，外观（破片，缺角，孔洞，脏污）需注意 1 切割方向会厚薄不均，放片时需 180 度错落放置以保证放入载体厚薄均匀，切割方向需要垂直与印刷细栅方向，预防水波纹出现。2 线痕 单线痕密集线痕3）原硅片因切割后因有清洗所以会有粘
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	硅晶片清洗工艺流程	2018-08-15
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	硅片纳米微粒清洗洁净新技术	2018-08-15
	基金项目 江苏省高校科研成果产业推进工程计划项目J HZD06242硅片纳米微粒清洗洁净新技术张慧 , 成立 , 韩庆福 , 严雪萍 , 刘德林 , 徐志春 , 李俊江苏大学 电气与信息工程学院 , 江苏 镇江 212013摘要 随着半导体技术的不断发展 , 集成电路的线宽正在不断减小 , 对硅片表面质量处理的要求也就越来越高 。 传统的湿法清洗已经不能满足要求 , 故必须研发新
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	硅片背面软损伤工艺技术研究	2018-08-15
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	光刻工艺	2018-08-15
	光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3 ，耗费时间约占整个硅片工艺的 40～ 60。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 / 台。主要是贵在成像系统（由15～ 20 个直径为 200～ 300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于 10nm）。
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	光刻	2018-08-15
	光刻一、概述光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的 4060 。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 /台。主要是贵在成像系统（由 15～ 20个直径为 200～ 300mm 的透镜组成）和定位系统（定位精度小于
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