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基于主动视觉的相机标定方法在太阳能电池片丝印机上的应用 基于主动视觉的相机标定方法在太阳能电池片丝印机上的应用 基于主动视觉的相机标定方法在太阳能电池片丝印机上的应用 2018-08-17
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 5  / 时长: 1秒  / 阅读: 303  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺 集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺 集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺 2018-08-17
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 112  / 时长: 1秒  / 阅读: 394  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
晶体硅太阳能电池片二次印刷中细栅线对主栅焊接拉力影响的研究 晶体硅太阳能电池片二次印刷中细栅线对主栅焊接拉力影响的研究 晶体硅太阳能电池片二次印刷中细栅线对主栅焊接拉力影响的研究 2018-08-17
54 2016年 1月上 第 01期 总第 229期工艺设计改造及检测检修 China Science 使用不同的底层细栅线银浆时 , 主栅焊接拉力值差异明显 , 测试表明细栅线对于主栅焊接拉力有一定的影响。【关键词】 晶体硅太阳能电池 二次印刷 细栅线 主栅焊接拉力【 Abstract 】 In this paper, we studied the crystalline sil
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 3  / 时长: 1秒  / 阅读: 488  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
基于CIGS薄膜的太阳能电池综述 基于CIGS薄膜的太阳能电池综述 基于CIGS薄膜的太阳能电池综述 2018-08-17
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 60  / 时长: 1秒  / 阅读: 311  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
集成电路工艺第二章:氧化 集成电路工艺第二章:氧化 集成电路工艺第二章:氧化 2018-08-17
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晶硅太阳能电池生产线工艺及设备调研报告2015 晶硅太阳能电池生产线工艺及设备调研报告2015 晶硅太阳能电池生产线工艺及设备调研报告2015 2018-08-17
晶硅太阳能电池生产线工艺及设备调研第一章 背景及原理第二章 主要生产工艺过程第三章 主要设备介绍第四章 深圳相关公司介绍第五章 我国晶硅太阳能电池设备存在三大问题(引用网络文章)第一章 背景及原理1.1 背景略(光伏意义,政府政策等)1.2 硅太阳能电池的结构及其工作原理其主要是利用硅半导体 p-n 结的光生伏打效应。 即当太阳光照射 p-n 结时, 便产生了电子 -空穴对, 并在内建电场的作用
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 22  / 时长: 1秒  / 阅读: 251  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
晶体硅扩散工艺研究 晶体硅扩散工艺研究 晶体硅扩散工艺研究 2018-08-17
晶体硅扩散工艺研究摘要 本文主要介绍利用 POCl3 液态源法对单晶体硅片进行扩散, 扩散后测其方块电阻以及结深。 假设硅片的结深已经确定的情况下, 研究扩散温度和扩散时间之间的关系, 以便找到扩散工艺中最合适的扩散温度、 时间, 在不影响硅片质量的前提下,缩短扩散时间。关键词 热扩散系数;恒量源扩散;结深;饱和值1 引言随着全球经济的迅速发展和人口的不断增加, 以石油、 天然气和煤炭等为主
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 10  / 时长: 1秒  / 阅读: 624  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响 碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响 碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响 2018-08-17
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 3  / 时长: 1秒  / 阅读: 328  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
集成电路思考题 集成电路思考题 集成电路思考题 2018-08-17
思考题1、 将硅单晶棒制作成硅片包括哪些工序切断、滚磨、定晶向、切片、倒角、研磨、腐蚀、抛光、清洗、检验 。2、 切片可决定晶片的哪四个参数晶向、厚度、斜度、翘度和平行度。3、 硅单晶片研磨后为何要清洗硅片清洗的重要性硅片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏成为悬挂键,形成表面附近的自由力场,极易吸附各种杂质,如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子等,造成磨片后的硅片易发生变花发蓝发黑等
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 11  / 时长: 1秒  / 阅读: 479  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
碱洗作业指导书 碱洗作业指导书 碱洗作业指导书 2018-08-17
编 号碱洗作业指导书 版 本 A/1 受控状态批 准 审 核 编 制日 期 日 期 日 期目的 规范硅片碱洗操作程序 , 指导作业方法 , 提高作业效率 , 保证硅片清洗质量 . 2. 适用范围 本作业指导书适用于生产计划部原材料准备车间碱洗工序 . 3. 工作职责 3.1 对 IC 级硅片、太阳能级单晶硅片、太阳能级多晶硅片进行化学腐蚀清洗 , 去除其表面杂质脏污 , 以满足
发布者: 索比杜金泽  / 页数: 4  / 时长: 1秒  / 阅读: 505  / 下载价格: 3 金币 / 评价:
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