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简介：硅片硬质抛光盘化学机械抛光工艺参数优化试验研究作者 许雪峰 ， 严科伟 ， 马冰迅 ， 胡建德 ， Xu Xuefeng ， Yan Kewei， Ma Bingxun， HuJiande作者单位 浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室 ,浙江杭州 ,310032刊名 润滑与密封英文刊名 LUBRICATION ENGINEERING年，卷 期 2008,332被引用次数 2次参考文献 4条1. John Schuler CMP technology and markets 19992. Sharath Hegde Chemical-mechanical p

简介：SG2Y40- 10 CD 硅 片 清 洗 机 维 护 与 保 养 规 程苏州协鑫光伏科技有限公司 2011-07-04 发布 2011-07-04 实施 1 / 3 1. 目的本标准规定苏州协鑫光伏科技有限公司 SG2Y40-10CD 硅片清洗机的保养工作，降低设备故障率，提高设备安全性，使保养工作处于受控状态。2. 范围本标准适用于苏州协鑫光伏科技有限公司车间 SG2Y40-10CD 硅片清洗机的维护与保养工作。3. 定义无4. 引用标准无5. 职责5.1 班组长 /工程师5.1.1 督导 SG2Y40-10CD 硅片清洗机维护与

简介：1 江苏淮安标准操作文件 编 号硅片腐蚀 （碱洗） 作业指导书版 本受控状态批 准 审 核 编 制日 期 日 期 日 期1 目的 使已经有污染的硅片腐蚀、清洗干净能用于拉制太阳能级单晶的原材料；2 使用材料HF（ 49） 、 NAOH（ 99） 、 HCL（ 37） 、片料、烘箱。3 常用工具、设备碱洗蓝、漂洗槽、超声波发声器、纯水、烘箱、封装机等。4 操作步骤4.1 彩片用 HF浸泡 5 小时左右，用自来水洗净；4.2 把洗过的彩片和片料放入配置 30-35的 NAOH溶液中 3 分钟（当中要不停的搅拌） 。迅速的放入纯水中反复冲洗（ 2 分钟） ；4.3 把碱洗好的

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简介：硅片的表面清洗技术摘要 是在最近几年里，无论是在降低生产成本方面，还是在提升电池转换效率方面，硅太阳电池制备工艺都取得了飞速的进步。本文以晶体硅太阳电池生产流程为基础，主要从降低生产成本和提高电池转换效率方面出发，介绍了太阳电池制备工艺的最新进展，并对各种制备工艺作出了评价和展望。 太阳电池结构和生产流程 早期的硅太阳电池的主体结构，它主要包括单结的ｐｎ结、指形电极、减反射膜和完全用金属覆盖的背电极。虽然太阳电池发展迅速，它的主要结构仍然保持不变，只不过每一个部分的制备工艺水平都较早期的有了质的飞跃。工业上生产太阳电池流程可以简化成制备硅片→扩散制结→沉积减反射膜和钝化膜→制成电极→封装

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简介：硅片清洗及最新发展摘 要 本文首先分析了太阳能硅片表面存在的污染物， 在此基础上重点阐述了太阳能硅片的几种清洗方法，并指出其发展趋势。关键词 太阳能硅片；硅片清洗；硅片表面污染0 引言当前， 我国光伏产业发展迅速， 我国的太阳能电池年生产量在全球排名第一。太阳能硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响， 所以人们对太阳能硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求。 太阳能硅片在经过切片、 倒角、 研磨、抛光等加工过程中， 表面会受到不同程度的污染， 比如颗粒、 金属离子以及有机物。如果没有处理好这些污染的话，器件性能会受到很大程度的影响。目前，制造总损失的一半是因为硅片清洗不当引起的器件失效

简介：- 1 - 一 . 引言太阳能是人类取之不尽用之不竭的可再生能源。也是清洁能源，不产生任何的环境污染。当电力、煤炭、石油等不可再生能源频频告急，能源问题日益成为制约国际社会经济发展的瓶颈时，越来越多的国家开始实行“阳光计划”，开发太阳能资源，寻求经济发展的新动力。欧洲一些高水平的核研究机构也开始转向可再生能源。在国际光伏市场巨大潜力的推动下，各国的太阳能电池制造业争相投入巨资，扩大生产，以争一席之地。全球太阳能电池产业 1994-2004 年 10 年里增长了 17 倍，太阳能电池生产主要分布在日本、欧洲和美国。 2006 年全球太阳能电池安装规模已达1744MW ，较 2005 年成长

简介：南昌大学毕 业 论 文题 目 硅片清洗工艺的发展 _ 专 业 光伏材料加工与应用技术班 级 自 考 _____________ 准考证号 0569111xxxxx 学生姓名 陈勇清 ____ 院 系 江西太阳能科技职业学院 xxxxxx 系指导教师 张 xx __________ 日 期 2012 年 4 月 23 日 __1 摘 要在集成电路和光伏硅太阳能电池生产中，几乎每道工序都有硅片清洗的问题，硅片清洗的好坏对器件的性能有着直接的影响，处理不当会使制造出来的器件性能低劣、稳定性和可靠性差，因此弄清楚硅片清洗方法对从事半导体生产的人来说有着重要的意义。 本文主要论述了硅片

简介： 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved

简介：硅抛光片存储中表面起 “ 雾 ” 的研究万向硅峰电子股份有限公司，浙江 开化 324300 摘要 存储中硅片起 “ 雾 ” 是硅片存储面临的最大挑战， “ 雾 ” 缺陷是可见或可印刷的晶体结构，从污染生长而来，已是困扰半导体业界长达 10 年以上的大问题。半导体制造商们至今还未能提出良好的解决方案。所以研究硅片的 “ 雾 ” 缺陷，并克服 “ 雾 ” 缺陷显得尤为迫切。从实际生产出发，根据实验数据分析和理论推导，建立了一个起 “ 雾 ” 原因基本模型，对引起 “ 雾 ” 缺陷影响因素进行了独立细致的分析，并在这个模型的基础上提出了相对应的有效的解决方案。关键词 时间雾；携带层； AM