PECVD氮化硅薄膜的制备工艺及仿真研究	2019-08-19
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	PECVD沉积氮化硅薄膜在退火过程中的特性变化及在太阳电池中的应用	2019-08-19
	3 北 京 市 科 技 新 星 计 划 资 助 项 目 H020821480130 收 稿 日 期 2003211206 PECVD 沉 积 氮 化 硅 薄 膜 在 退 火 过 程 中 的 特 性 变 化 及 在 太 阳 电 池 中 的 应 用 3 叶 小 琴 1 许 颖 2 李 艳 1 顾 雅 华 1 周 宏 余 1 王 文 静 2 1北 京 师 范 大
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	动态在线连续PECVD镀膜在异质结电池量产设备中的优势（报告人-邓勋明-昆山迅立光电设备有限公司）	2019-08-19
	昆山迅立光电设备有限公司 迅立光电设备有限公司保密资料- 未经许可不得外传 高端真空镀膜设备的研发和制造 光伏 平板显示 半导体 节能建 筑 汽车 零部件 新 材料研 发 医疗器 械 非晶硅/ 晶体硅异质结（HAC ）光伏 发展与 国产化 论坛 2018.11.18 江西南昌 动态在线连续PECVD 镀膜 在异质结电池量产设备中 的优势 邓勋明 1迅立光电设备有限公司保密资料-
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	PECVD工艺腔加热功率调整方法说明	2019-08-19
	PECVD 工艺腔加热功率调整方法说明 张小亮 2013-08-08 工艺腔加热模块组成简述 调整方法说明 加热功率对工艺腔温度分布的影响 工艺腔加热模块组成简述（ 1） 加热板内部加热电阻结构如下 加热电阻 1----1A 加热电阻 2----2A 加热电阻 3----3A 工艺腔加热板分布如下 工艺腔加热模块组成简述（ 2） 工艺腔的 6个加热板为 “对头 ”交叉放置（如上图）。
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	PECVD	2019-08-19
	SiNxH减反射膜 和 PECVD技术 目录 v SiNxH简介 v SiNxH在太阳电池中的应用 v PECVD原理 v光学特性和钝化技术 v系统结构及安全事项 2 SiNxH简介 v正常的 SiNx的 Si/N之比为 0.75，即 Si3N4。 但是 PECVD沉积氮化硅的化学计量比会随 工艺不同而变化， Si/N变化的范围在 0.75-2 左右。除了 Si和 N， PECVD的氮化
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	PECVD氮化硅薄膜的性能对太阳能电池的影响分析毕业设计(1)	2019-08-19
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	葵花宝典--PECVD	2019-08-19
	PECVD等离子增强化学气相淀积 Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition 一、镀膜原理 二、管式 PECVD 镀膜的各工艺参数具体控制范围 三、PECVD 膜的作用、简述膜的特性。 四、常见的异常情况 一、镀膜原理 所谓等离子体，是指气体在一定条件下受到高能激发，发生电离，部分外 层电子脱离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合组成的一种形态，这种
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	PECVD氮化硅薄膜制备与微结构研究	2019-08-19
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	PECVD工艺工程师手册	2019-08-19
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	JUSUNG PECVD 设备说明(1)	2019-08-19
	Safety Manual CYCLONE TM PLUS JUSUNG Engineering Co., Ltd. Page Revision 1.0 1-1 User’s ManualPreliminary World’s Best People, World’s Best Products, World’s Best Company Solar Cell System
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