硅片-电池片流程	2018-08-15
	电池片流程1、 车间段位构成WHQ 硅片为太阳能电池片的载体， 硅片的质量决定了电池片的转换效率。 而该工序则是对硅片的来料检测，主要是包括厚度， TTV，电阻率，外观（破片，缺角，孔洞，脏污）需注意 1 切割方向会厚薄不均，放片时需 180 度错落放置以保证放入载体厚薄均匀，切割方向需要垂直与印刷细栅方向，预防水波纹出现。2 线痕 单线痕密集线痕3）原硅片因切割后因有清洗所以会有粘
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 2  / 时长: 1秒  / 阅读: 350  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅晶片清洗工艺流程	2018-08-15
	点击查看更多硅晶片清洗工艺流程精彩内容。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 35  / 时长: 1秒  / 阅读: 210  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片纳米微粒清洗洁净新技术	2018-08-15
	基金项目 江苏省高校科研成果产业推进工程计划项目J HZD06242硅片纳米微粒清洗洁净新技术张慧 , 成立 , 韩庆福 , 严雪萍 , 刘德林 , 徐志春 , 李俊江苏大学 电气与信息工程学院 , 江苏 镇江 212013摘要 随着半导体技术的不断发展 , 集成电路的线宽正在不断减小 , 对硅片表面质量处理的要求也就越来越高 。 传统的湿法清洗已经不能满足要求 , 故必须研发新
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 4  / 时长: 1秒  / 阅读: 302  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	硅片背面软损伤工艺技术研究	2018-08-15
	点击查看更多硅片背面软损伤工艺技术研究精彩内容。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 1  / 时长: 1秒  / 阅读: 311  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	光刻工艺	2018-08-15
	光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3 ，耗费时间约占整个硅片工艺的 40～ 60。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 / 台。主要是贵在成像系统（由15～ 20 个直径为 200～ 300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于 10nm）。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 20  / 时长: 1秒  / 阅读: 407  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	光刻	2018-08-15
	光刻一、概述光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上， 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的 4060 。光刻机是生产线上最贵的机台， 5～ 15 百万美元 /台。主要是贵在成像系统（由 15～ 20个直径为 200～ 300mm 的透镜组成）和定位系统（定位精度小于
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 10  / 时长: 1秒  / 阅读: 394  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	光伏扩散技术基础	2018-08-15
	点击查看更多光伏扩散技术基础精彩内容。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 7  / 时长: 1秒  / 阅读: 353  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	各种太阳能电池的优缺点	2018-08-15
	各种不同太阳电池的优缺点分析http//news.cecb2b.com/ 来源 元器件交易网 日期 2012 年 05 月 10 日硅太阳 电池 的应用日趋广泛 , 但昂贵的原材料成为发展的瓶颈 . 薄膜太阳 电池 由于只需使用一层极薄的光电材料， 材料使用非常少。 并可使用软性衬底， 应用弹性大， 如果技术发展成熟， 其市场面将相当宽阔。 本文就迄今被人们广为关注的薄膜太阳 电池 , 即
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 10  / 时长: 1秒  / 阅读: 414  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	光伏硅片工艺方面的异常分析	2018-08-15
	硅片工艺方面异常分析2016-08-21来源尖山股份
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 12  / 时长: 1秒  / 阅读: 304  / 下载价格: 3 金币 / 评价:

	复旦集成电路工艺课件-03	2018-08-15
	点击查看更多复旦集成电路工艺课件-03精彩内容。
	发布者: 索比杜金泽  / 页数: 48  / 时长: 1秒  / 阅读: 216  / 下载价格: 3 金币 / 评价: