半导体硅片的化学清洗技术(20180720140544)	2018-08-21
	半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后，其表面已受到严重沾污，一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污 运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μm 颗粒， 利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μm 颗粒。C. 金属离子沾污必须采用化学的方法才能清洗其
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	半导体硅片的品质工艺与产品质量(20180720170141)	2018-08-21
	环球市场 / 电力工程- 112-半导体硅片的品质工艺与产品质量宋艳彤天津中环半导体股份有限公司摘要 半导体技术是一个国家科研、生产能力的集中代表，是未来社会与建设自动化和智能化的基础型技术。由于国家政策上和经济上的大力支持，一段期间内国内成立了大量的半导体材料生产企业，但随着市场的逐渐饱和，半导体材料产品逐渐出现过剩，企业间的竞争变得空前的激烈，不少企业的生存遇到了困难，因此进一步加强对其的
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	PVDF_太阳能电池硅片花篮的研制	2018-08-21
	PVD F 太阳能电池硅片花篮的研制3孙卫东 ,黄 萍 ,王 华 ,朱道峰 ,刘哲伟 ,刘秋晨北京市塑料研究所 ,北京 100009 摘要 论述了采用注射成型方式 ,对装载方形太阳能硅片的花篮进行研制的过程 。详细介绍了花篮原材料选择 、 模具设计 、 收缩率的确定 、 可熔融性氟塑料 PVDF 注射加工工艺及产品性能控制等影响因素 。 结果显示可熔融氟塑料 PVDF 具有较好
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	半导体硅片镀镍液的开发	2018-08-21
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	MES-铸锭硅片车间解决方案2.0	2018-08-21
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	VG202MKII精密硅片减薄机调试技术_陈洪波	2018-08-21
	收稿日期 2003-12-08; 定稿日期 2004-01-20文章编号 1004-33652004 05-0565-04VG 202MKII 精密硅片减薄机调试技术陈洪波 , 熊化兵 模拟集成电路国家重点实 验室 ; 中国电子科技集团公司 第二十四研究所 , 重庆 400060摘 要 VG 202M KII 全自动精密硅片减薄机是 SOI 工艺的主要设备之一。由于
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	安永硅片分选机TD-200(20180720165511)	2018-08-21
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	半导体硅片的化学清洗技术	2018-08-21
	半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后， 其表面已受到严重沾污， 一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μ m颗粒，利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μ m颗粒。C. 金属离子沾污必须采用化学的方法才能清洗其
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	PLC技术在太阳能硅片清洗机控制上的应用	2018-08-21
	PLC 技术在太阳能硅片清洗机控制上的应用[摘要 ] 文章介绍了 PLC 的结构和工作原理，概述了太阳能硅片清洗机的结构和工艺流程，对 PLC 在太阳能硅片清洗机控制上的应用可行性进行了探讨， 对 PLC控制太阳能硅片清洗机梯形图及程序进行了分析，对太阳能硅片清洗机采用 PLC控制的优越性进行了总结。设备产品质量高，控制系统可靠性高，自动化水平高。随着 PLC技术的不断发展， PLC在太阳能硅片
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	IC硅片和器件价格调研_2014	2018-08-21
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