简介：PECVD 微波产生原理 缪国芳 李佳良 微波功率系统组成 微波功率系统简图 微波电源的功能 磁控头的构造 微波的传导 1微波功率系统组成（ 1） 以上为主机通过 CAN通讯方式控制微波电源及 所有磁控头的图列。 2微波功率系统简图（ 1） 以上为主机通过通过微波电源控制磁控头产生微波的简图。主要有 3点 1，微波电源 X2与磁控头 X1相连，磁控头灯丝电源供给，磁控头温度保护； 2， X3接头是磁控头检测到反射功率反馈给微波电源； 3， X4为磁控头给微波头磁控管阴极提供受控的负直流高压。 所有指令有主机发出控制，微波电源及磁控头的数据信息最终都反馈给主机。 （图 1） 2微波功率系统

简介：PECVD 工艺腔加热功率调整方法说明 张小亮 2013-08-08 工艺腔加热模块组成简述 调整方法说明 加热功率对工艺腔温度分布的影响 工艺腔加热模块组成简述（ 1） 加热板内部加热电阻结构如下 加热电阻 1----1A 加热电阻 2----2A 加热电阻 3----3A 工艺腔加热板分布如下 工艺腔加热模块组成简述（ 2） 工艺腔的 6个加热板为 “对头 ”交叉放置（如上图）。两个侧边都分别有 3 个 “1A”、 3个 “3A”组成，而中间 6个均为 “2A”，所以两侧的加热功率只 能由 1A、 3A来同时控制 ----同时加大或减小，中间的加热功率可以由 2A 来单独控制

简介：SiNxH减反射膜 和 PECVD技术 目录 v SiNxH简介 v SiNxH在太阳电池中的应用 v PECVD原理 v光学特性和钝化技术 v系统结构及安全事项 2 SiNxH简介 v正常的 SiNx的 Si/N之比为 0.75，即 Si3N4。 但是 PECVD沉积氮化硅的化学计量比会随 工艺不同而变化， Si/N变化的范围在 0.75-2 左右。除了 Si和 N， PECVD的氮化硅一般 还包含一定比例的氢原子，即 SixNyHz或 SiNxH。 3 SiNxH简介 4 v物理性质和化学性质 Ø结构致密，硬度大 Ø能抵御碱金属离子的侵蚀 Ø介