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简介：单晶硅太阳能电池片生产工艺

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简介：工艺内容一、硅片清洗选定硅片后 , 硅片的表面准备是制造硅太阳电池的第一步主要工序，这包括硅片的化学清洗和表面腐蚀。化学清洗是为了除去沾污在硅片上的各种杂质；表面腐蚀的目的是除去硅片表面的切割损伤，获得适合制结要求的硅表面。制结前硅表面的性质和状态强烈地影响结特性，从而影响成品太阳电池的性能，故应十分重视。硅片清洗包括以下几个内容1、 杂质的去除硅片表面可能沾污的杂质大致可以归纳为三类1） 油脂、松香、蜡等有机物质。2） 金属以及金属离子以及各种无机化合物。3） 尘埃以及其它可溶物。2、 损伤层的去除硅片在切割过程中会在表面形成大约 10μ m厚的损伤层，这一层因为与硅片基体的状态已经

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简介：2017 年 04 月工艺控制对单晶硅太阳能电池生产工艺的研究王森涛 焦朋府 张 波 山西潞安太阳能科技有限责任公司， 山西 长治 046000摘要 文章主要对制绒、 扩散制结、 等离子边缘刻蚀、 去磷硅玻璃、 PECVD 镀减反射膜、 丝网印刷电极、 烧结几种单晶硅太阳能电池的生产工艺展开了研究分析。关键词 单晶硅； 太阳能； 电池； 生产工艺； 研究在传统能源不断枯竭的背景下， 作为新能源和绿色能源的太阳能受到了越来越多的关注。而在太阳能的利用中， 太阳能电池是目前使用最为广泛的。由于单硅晶电池是目前在太阳能光伏市场中最为主流的产品， 在市场中的占比例达到 80左右， 所以从

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简介：半导体、光伏硅片、芯片、电池片的清洗工艺一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后， 其表面已受到严重沾污， 一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污 运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μ m颗粒，利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μ m颗粒。C. 金属离子沾污必须采用化学的方法才能清洗其沾污，硅片表面金属杂质沾污有两大类a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着（尤如“电镀” ）到硅片表面。硅抛光片的化学

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简介：硅棒滚圆清洗清洗整理分批粘胶出料切削液收集切削液收集热除胶

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