简介：序号 国内主流企业1 保利协鑫2 江西赛维 LDK太阳能高科技有限公司3 浙江昱辉阳光能源有限公司4 英利绿色能源控股有限公司5 常州天合光能有限公司6 河北晶龙集团7 新疆新能源股份有限公司8 大全新能源9 天威新能源10 晶科能源11 通威集团12 阿特斯13 江苏环太集团14 江苏中盛光电有限公司15 安徽新光太阳能科技有限公司16 江苏顺大集团17 精功绍兴太阳能技术有限公司18 江阴海润科技有限公司19 洛阳中硅高科技有限公司20 凤凰光伏21 西安龙基22 常州亿晶光电科技有限公司23 高佳太阳能24 天津市环欧半导体材料技术有限公司25 上海卡姆丹克太阳能科技有限公司26 上海

简介：收稿日期 1999- 07- 12硅片清洗原理与方法综述刘传军 赵 权 刘春香 杨洪星电子四十六所 , 天津 300220摘要 对硅片清洗的基本理论 、 常用工艺方法和技术进行了详细的论述 , 同时对一些常用的清洗方案进行了浅析 , 并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述 。关键词 硅片 清洗 湿法化学清洗中图分类号 TN 30512 文献标识码 A 文章编号 100125507 2000 2230207Theory and M ethod of Sil icon W afer Clean ingL iu Chuan jun, Zhao Q uan, L

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简介：输入 结果硅片面积计算边长 125 mm对角线 150 mma 62.5L 75b 41.45781一角弧长 29.95689缺角面积 191.7535硅片面积 148.5799 平方厘米La2b

简介：毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法所 属 系 太阳能科学与工程系专 业 光伏材料加工与应用技术I 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展 , 集成度的不断提高 , 线宽的不断减小 , 对硅片的质量要求也越来越高 , 特别是对硅抛光片的表面质量要求越来越严。在硅晶体管和集成电路生产中 , 几乎每道工序都有硅片清洗的问题 , 硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响 , 处理不当 , 可能使全部硅片报废 , 做不出管子来 , 或者制造出来的器件性能低劣 , 稳定性和可靠性很差。因此弄清楚硅片清洗的方法和原理 , 不管是对于从事硅片加工的人 , 还是对于从事半导体器件生产的人

简介：关键词硅片 线切割 钢线1、引言硅片多线切割技术是目前世界上先进的硅片切割加工方法之一，它是与传统的切割方式，如刀锯、砂轮片等不同的， 也与先进比较先进的切割技术，如 激光切割 或是内圆切割有差别。总体来讲，它是用一根高速传动的钢丝线来带动附着在其上的切割刃料高速的走动，使得与待切割硅棒进行摩擦，从而完成切割。下文将详细介绍其原理和简单工作流程。2、硅片线切割技术原理简介2.1 宏观机理从硅片多线切割设备的宏观机理简图看待切割的晶棒由玻璃板固定于不锈钢的工件上，然后放在切割机的相应部位上， 导轮经过开槽工艺来对对精密线槽进行处理， 钢线有序的缠绕在四个导轮上形成了上下两个互相平行的线网。

简介：硅片生产培训资料Page 1 of 24 培训目的1、 确定硅片生产过程整个目标；2、 为工艺过程确定一典型流程；3、 描述每个工艺步骤的目的；4、 在硅片生产过程中，硅片性能的三个主要关系的确定。简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始，最终在 10 级净空房内完成。工艺过程综述硅片加工过程包括许多步骤。所有的步骤概括为三个主要种类能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的

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简介：1 请将电子版打印出来，仔细阅读，不懂之处用笔标记上，这样才算写了预习报告。老师将根据认真程度给预习分红外激光测量硅片的折射率和厚度实验类型近代光学设计性实验实验地点实训中心 2 号楼 1 楼 2123 教室实验日期第 9-12 周（第一轮） ，每周 （例如周 五 ）节次 （例如 34 节）学生姓名 学号 手机号 Email一 . 目的要求用光波导法测量硅片的折射率和厚度。实验要求达到1、了解 Au-Si-Au 三层平板波导结构，理解导模的激发原理2、掌握导模测量的衰减全反射实验方法3、计算硅片的折射率和厚度二 . 仪器设备光纤激光器、小孔、 Au-Si-Au 波导、 ω -

简介：硅片质量对太阳能电池性能的影响尚德电力控股有限公司 张光春1. 引言2007年全球商业化光伏电池市场中，由单晶硅和多晶硅组成的晶体硅太阳能电池的市场份额达 87.4，是光伏市场的绝对主流产品，而且在可见的未来几年内，这种局面不会改变。1999 年 -2007 年全球商业化光伏电池市场份额硅片作为晶体硅太阳能电池的基础材料， 其质量对电池性能具有很重要的影响。 一方面， 硅片的内部缺陷和杂质会直接影响电池的效率和稳定性； 另一方面，硅片的外观缺陷和表面质量对电池的制造和外观等也具有很重要的影响。只有通过硅片供应商和电池片制造商的共同努力，不断改善和提高硅片质量，才能更好地为我们的客户提供高质

简介：Page 1 of 36 培训目的1、 确定硅片生产过程整个目标；2、 为工艺过程确定一典型流程；3、 描述每个工艺步骤的目的；4、 在硅片生产过程中，硅片性能的三个主要关系的确定。简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始，最终在 10 级净空房内完成。工艺过程综述硅片加工过程包括许多步骤。 所有的步骤概括为三个主要种类 能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的性能；能减少

简介：硅片清洗技术的发展趋势随着超大规模集成电路的发展、集成度的不断提高、线宽的不断减小， 对硅片表面的洁净度及表面态的要求也越来越高。 要得到高质量的半导体器件， 仅仅除去硅片表面的沾污已不再是最终的要求。 在清洗过程中造成的表面化学态、 氧化膜厚度、 表面粗糙度等已成为同样重要的参数。目前，通常应用的清洗方法是湿式化学清洗法，即利用有机溶剂、碱性溶液、酸性溶液、表面活性剂等化学试剂，配合兆声、超声、加热等物理措施，使有机物、颗粒、金属等沾污脱离硅片表面， 然后用大量的去离子水冲洗， 获得洁净的硅片表面的清洗方法。1. 硅片清洗硅片表面沾污是指沉积在硅片表面的粒子、金属、有机物、湿气分子和自然氧

简介：硅片规格 硅片厚度 硅片理论重量（克）0.2 11.1300.195 10.8520.19 10.5740.185 10.2960.18 10.017硅片规格 硅片厚度 硅片理论重量（克）0.2 7.2120.195 7.0310.19 6.8510.185 6.6710.18 6.4900.175 6.3100.17 6.1300.2 11.3360.195 11.0520.19 10.7690.185 10.4860.18 10.2020.175 9.9190.17 9.635125x125mm单晶硅片156x156mm多晶硅片156x156mm单晶硅片