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单晶硅太阳能电池背抛光技术研究（4页）

2013 年七月刊 SOLARZOOM 光伏杂志技术工艺 / Technical Process摘要本文介绍了对单晶硅电池背抛光工艺作用和条件的研究。通过对不同化学溶液、不同温度和不同腐蚀时间条件对硅片表面反射率和电池电学性能的影响，证实了背抛光在增加背面反射、提高电池与铝背场接触...

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GBT35305-2017太阳能电池用砷化镓单晶抛光片（12页）

下载价格：5 金币 / 发布人：侯先生（工作号） / 发布时间：2018-08-21 / 292人气

抛光工艺对硅片表面Haze值的影响（5页）

017． 12． 008918 半导体技术第 42 卷第 12 期 2017 年 12 月基金项目国家科技重大专项资助项目（ 2008ZX02401）E- mail wangyongtaogritek ． com抛光...

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利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光（7页）

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下载价格：3 金币 / 发布人：索比杜金泽 / 发布时间：2018-08-21 / 202人气

化学机械抛光中的硅片夹持技术（9页）

化学机械抛光中的硅片夹持技术孙禹辉，康仁科，郭东明，金洙吉，苏建修大连理工大学机械工程学院，辽宁大连 116024 摘要目前半导体制造技术已经进入 0． 13μm 时代，化学机械抛光 CMP已经成为 IC 制造中不可缺少的技术。本文描述了下一代 IC 对大尺寸硅片 ≥ 300...

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化学机械抛光中的硅片夹持技术(20180720144653) （5页）

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硅片加工表面抛光（102页）

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硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理（2页）

在半导体材料硅的表面清洁处理，硅片机械加工后表面损伤层的去除、直接键合硅片的减薄、硅中缺陷的化学腐蚀等方面要用到硅的化学腐蚀过程。下面讨论硅片腐蚀工艺的化学原理和抛光工艺的化学原理。一、硅片腐蚀工艺的化学原理硅表面的化学腐蚀一般采用湿法腐蚀， ...

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硅片化学机械抛光时运动形式对片内非均匀性的影响分析（4页）

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硅片腐蚀和抛光工艺（1页）

硅片腐蚀和抛光工艺链接 www.china-nengyuan.com/baike/2275.html硅片腐蚀和抛光工艺硅片腐蚀工艺的化学原理硅表面的化学腐蚀一般采用湿法腐蚀，硅表面腐蚀形成随机分布的微小原电池，腐蚀电流较大，一般超过 100A/cm2，但是出于对腐蚀液高纯度和减少可能金属离子污...

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