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简介：收稿日期 2003-12-08; 定稿日期 2004-01-20文章编号 1004-33652004 05-0565-04VG 202MKII 精密硅片减薄机调试技术陈洪波 , 熊化兵 模拟集成电路国家重点实 验室 ; 中国电子科技集团公司 第二十四研究所 , 重庆 400060摘 要 VG 202M KII 全自动精密硅片减薄机是 SOI 工艺的主要设备之一。由于其具有高精度、全程控等特点 , 设备构造较复杂 , 调试难度较大。文章由原理到实际、 由流程到技巧 , 比较系统地阐述了该设备的关键调试技术。关键词 半导体设备 ; 硅片减薄机 ; SOI 工

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简介：半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后， 其表面已受到严重沾污， 一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μ m颗粒，利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μ m颗粒。C. 金属离子沾污必须采用化学的方法才能清洗其沾污，硅片表面金属杂质沾污有两大类a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着（尤如“电镀”）到硅片表面。硅抛光片的化学清洗目的就在于要去除这

简介：PLC 技术在太阳能硅片清洗机控制上的应用[摘要 ] 文章介绍了 PLC 的结构和工作原理，概述了太阳能硅片清洗机的结构和工艺流程，对 PLC 在太阳能硅片清洗机控制上的应用可行性进行了探讨， 对 PLC控制太阳能硅片清洗机梯形图及程序进行了分析，对太阳能硅片清洗机采用 PLC控制的优越性进行了总结。设备产品质量高，控制系统可靠性高，自动化水平高。随着 PLC技术的不断发展， PLC在太阳能硅片清洗机的控制上将有更广阔的应用前景。[关键词 ]太阳能硅片清洗机 ; PLC; 梯形图 ; 程序 ; 控制前 言近年来我国太阳能电池生产量和市场销售量分别以年均 15和 20的速度增长，去年全国太

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简介：化学腐蚀和机械抛光方法改善硅片崩边的研究与应用作者 贺园园 ， 姚振民 ， 刘振淮作者单位 硅片生产部 ,常州天合光能有限公司 ,江苏省 常州市 213031相似文献 0条本文链接 http//d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_6880302.aspx下载时间 2010年 5月 11日

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简介：硅片检测机生产操作规范一 . 目的为规范员工操作，提高设备管理水平，降低设备故障率，更好的促进人机磨合，使设备更好的服务于生产，特编制此规范 。二 . 范围本规范适用于国电光伏 （江苏） 有限公司硅片检测工序生产操作人员。三 . 参考FORTIX设备手册四 . 职责4.1 熟练掌握硅片检测间的日常生产操作、设备及工夹具的掌控。4.2 懂得生产过程中的正确防护五 . 定义该设备主要用来对来料硅片的尺寸、厚度、表面粘污、 TTV 、少子寿命等参数进行检测设备名称 Fortix 硅片检测机设备型号 FWIS-300 电源 380ACV-10、 50HZ、 3 相压空 5bar-6bar

简介：韩国 FORTIX硅片筛选设备技术协议1. 该机台的外观图大致如下 , 这套系统主要由 Fortix， ICOS 和Semilab三家专业公司提供的产品组成2. FORTIX 整机自动化部分 ,例如硅片上下料 , 硅片传输 , 整个系统的整合2． 1 该机兼容性较好，可以用 125X125 和 156X156 两种尺寸的硅片 . 将来根据需要增加新的检测模组 ,操作维护方便 . 2． 2 该机的产量为≥ 1800pcs/h.，碎片率 180um）2． 3 上料用两个片盒，一次可装 300 片硅片2． 4 下料部分共有十二个盒子，有问题的硅片分别放到其中的八个盒子里，好的硅片放到其中的四

简介：67International Scientific Colloquium Modelling for Electromagnetic Processing Hannover, March 24-26, 2003Modeling in Industrial Silicon Wafer Manufacturing - From Crystal Growth to Device Processes Th. Wetzel, J. VirbulisAbstract Silicon wafer manufacturing is one of the key processes that determi