1 氮流量对从非晶 SiNx到含有 Si3N4晶粒的富硅-氮化硅薄膜 转变的影响 * 李婷婷,周炳卿,闫泽飞 (内蒙古师范大学 物理与电子信息学院 功能材料物理与化学自治区重点实验室 呼和浩特 010022) 摘要采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,以高纯硅烷和氮气为反...
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