p技术总结 造成大热场G7晶锭底部阴影主要由于底部长晶速率过快和底部温度过低对流较弱; 对于晶锭底部长晶速率在9.82mm·h-1以下,可较好将粒径3 μm及以下Si3N4/SiC颗粒推进在硅液内部而不成为夹杂且底部温度较高对流较强,晶锭底部无阴影; 底部长晶速率超过9.82mm·...
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