站内搜索 4 条结果, 用时229ms
  • 2022年中国数字双碳厂商全景图分析报告(壳牌-贝克休斯-AirCarbon-碳信知)-头豹研究院.pdf14

    2022年中国数字双碳厂商全景图分析报告(壳牌-贝克休斯-AirCarbon-碳信知)-头豹研究院.pdf 2022年中国数字双碳厂商全景图分析报告(壳牌-贝克休斯-AirCarbon-碳信知)-头豹研究院.pdf (14页)

    1 2022年中国数字双碳厂商全景 图分析报告(壳牌-贝克休斯- AirCarbon-碳信知) Panorama of China Digital Dual Carbon Manufactures 中国のデジタルツインカーボンメーカー のパノラマ分析 报告标签数字技术、双碳、数字双碳 撰写人黄芳迪

    下载价格:8 金币 / 发布人: 灰色旋律 / 发布时间:2022-11-30 / 198人气

  • 硅片RCA清洗3

    硅片RCA清洗 硅片RCA清洗 (3页)

    The RCA clean is a standard set of wafer cleaning steps which needs to be performed before high temp processing steps oxidation , diffusion , CVD of

    下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-21 / 280人气

  • RCA标准清洗步骤(20180720145614)1

    RCA标准清洗步骤(20180720145614) RCA标准清洗步骤(20180720145614) (1页)

    硅片清洗工艺采用 RCA方法, 这是半导体行业硅片的标准清洗步骤1 配制氢氟酸溶液( 1 20,本次 100ml2000ml )2 硅片支架清洗、吹干待用3 取硅片放于支架上,按照顺序放好4 配 3#液(硫酸 H2O 231 ,本次 660ml 220ml ) ,硫酸最后加,同时另一容器煮水5 用

    下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 463人气

  • RCA标准清洗步骤1

    RCA标准清洗步骤 RCA标准清洗步骤 (1页)

    硅片清洗工艺采用 RCA方法, 这是半导体行业硅片的标准清洗步骤1 配制氢氟酸溶液( 1 20,本次 100ml2000ml )2 硅片支架清洗、吹干待用3 取硅片放于支架上,按照顺序放好4 配 3#液(硫酸 H2O231,本次 660ml 220ml ) ,硫酸最后加,同时另一容器煮水5 用 3

    下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 673人气

copyright@ 2008-2013 solarbe文库网站版权所有
经营许可证编号:京ICP备10028102号-1

1
收起
展开