硅片硬质抛光盘化学机械抛光工艺参数优化试验研究作者 许雪峰 , 严科伟 , 马冰迅 , 胡建德 , Xu Xuefeng , Yan Kewei, Ma Bingxun, HuJiande作者单位 浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室 ,浙江杭州 ,310032刊名 润滑与密封英文刊名 LU
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 429人气