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10001636_钙钛矿材料在发光器件中的应用研究

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10001636_钙钛矿材料在发光器件中的应用研究

钙钛矿材料在发光器件中的应用研究 黄伟 郑翠翠 石标 陈俊帆 延玲玲 辛晨光 杜亚雯 刘琳 赵颖 张晓丹 (南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071) 摘要本文制备了适合发光二极管的溴基钙钛矿薄膜,并对器件结构进行创新。通过 MABr 的过量来阻止钙钛矿薄膜中铅原子缺陷的形成来获得更优质的薄膜,通过研究不同电子注入层 对钙钛矿薄膜的影响,发现了 n 型纳米晶硅氧材料应用于器件中拥有优异表现,这为钙钛矿发 光二极管提供了一种新的电子注入层材料。 关键字n 型纳米晶硅氧;钙钛矿发光二极管 1. 研究背景与内容 钙钛矿由于其带隙可在 1.17-3.0eV 连续可调,覆盖了红、绿、蓝三基色的范围,可应用于 发光二极管中而受到广泛关注 [1],其中溴基钙钛矿具有高稳定性而受到广泛研究。对于钙钛矿 发光二极管,钙钛矿成膜过程中若有金属铅(Pb)原子缺陷的形成,则会引起强烈的激子淬灭, 提高钙钛矿至空穴传输层的势垒,导致光致发光强度降低、降低薄膜发光寿命 [2]。因此在钙钛 矿薄膜成膜过程中需防止金属铅(Pb )原子形成。 本文采用 n-i-p 型钙钛矿发光二极管结构。在 n-i-p 结构中应用到的电子注入层主要为 TiO2、ZnO,但其能级并不适当,使得发光二极管的开启电压相对较大,因此寻找更优秀的电 子注入层有利于获得更高的发光效率。 2. 研究结果与讨论 2.1 MABr 过量对钙钛矿材料的影响4505050606501234PL Intesiy a.uWavelngth m 1.2 3.410530nm012034051 2103104 12.76ns13.74ns2.8sNormalized Intsiy a.u Time ns 1.2 3.49.34ns 图 1 不同比例前驱体溶液 制备钙钛矿薄膜的光致发光光谱PL和时间分辨光致发光光谱 (TRPL) 我们制备不同 MABr 和 PbBr2 摩尔比的 DMSO 前驱体溶液制备钙钛矿薄膜,测试结果如 图 1 所示。当 MABr/PbBr21 时,PL 峰值很低,说明材料内部存在大量的缺陷。随着摩尔比的 提高,PL 的峰值逐渐提高,在 MABr/PbBr21.3 时达到最高,即此时钙钛矿中的缺陷减少。通 过时间分辨光致发光光谱(TRPL)图可以验证此观点当 MABr/PbBr21.3 时,钙钛矿材料中 缺陷最少,载流子寿命较高。 2.1 混合溶剂对钙钛矿材料的影响 4505050606501234PL Intesiy a.uWavelngth m 0DMF1 2310 1020304050 2103104 2.7ns.s21.9nNormalized Intsiy a.uTime ns 0DMF1 23 .34s 图 2 不同 DMF 含量的前驱体溶液制备钙钛矿薄膜的光致发光光谱 PL和时间分辨光致发 光光谱(TRPL) 我们在 DMSO 溶液中加入少量 DMF 形成混合溶剂溶解钙钛矿前驱体,旋涂制备钙钛矿薄 膜。如图 2 所示,当 DMF 含量为 30时,其 PL 值明显高于其他值,说明钙钛矿薄膜中的缺陷 逐渐降低。在 TRPL 图中观察到随着 DMF 含量的提高,载流子寿命有 22.34ns 逐渐提高至 24.47ns,说明钙钛矿薄膜质量逐渐提高。 图 3 不同 DMF 含量的前驱体溶液制备钙钛矿薄膜的原子力显微镜(AFM)图 如图 3 所示,随着 DMF 含量由 0提高至 30,钙钛矿的表面粗糙度由 5.5nm 降低至 4.1nm,当钙钛矿表面平滑时,后续制备器件旋涂的空穴注入层更平滑,有助于提高器件效率。 2.3 不同电子注入层对发光器件的影响 102304502468*XRD Intesiy a.u Theta dgr SnO2-ci x104* 图 4 不同电子注入层制备钙钛矿的 X 射线衍射(XRD)图 如图 4 所示,当采用 n-nc-SiOx 作为电子注入层制备钙钛矿薄膜,其 PL 峰值相对较高, 且半高宽降低至 21nm,说明此时钙钛矿中缺陷相对较少。1234567805105205 n-cSiOxLuminace d/Volatge a 1234567891020406.81.241.6 n-cSiOxCurent ficy d/A Volatge b 02468102306901250 n-cSiOxCurent dsiy mA/cVolatge 02468102.10.23.405.6 n-cSiOxEQ Volatge d 图 5 两种不同电子注入层制备的 LED 性能的比较a 电流密度- 电压,b亮度-电压,c电 流效率-电压,dEQE- 电压 如图 5 所示,用 n 型非晶硅氧作为电子注入层的钙钛矿 LED 的性能要明显优于用 n 型非 晶硅的器件。在 n-nc-SiOx 中的电流密度能够达到 1200mA/cm2 以上,器件中的亮度最高达到 2100cd/m2,器件 EQE 值达到 0.43。 3. 结论 我们通过对溴基钙钛矿前驱体中 MABr 不同比例,对前驱体溶液中 DMF 和 DMSO 的比例 的调控,并以 SnO2、n-nc-Si 到 n-nc-SiOx 三种材料分别作为电子注入层,制备器件,发现以 n- nc-SiOx 为电子注入层生长的钙钛矿缺陷更少、器件效率更高,达 0.43。 参考文献 [1] Tan Z K, Moghaddam R S, Lai M L, et al. Bright light-emitting diodes based on organometal halide perovskite[J]. Nature nanotechnology, 2014, 99 687-692. [2] Yantara N, Bhaumik S, Yan F, et al. Inorganic halide perovskites for efficient light-emitting diodes[J]. The journal of physical chemistry letters, 2015, 621 4360-4364. 作者简介 姓名张晓丹 主要研究方向无机太阳电池;钙钛矿太阳电池;催化材料;等离子体诊断和模拟 通讯作者联系方式电话13820413518,Email xdzhangnankai.edu.cn 通讯地址天津市卫津路 94 号南开大学伯苓楼光电子薄膜器件与技术研究所 邮政编码300071

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