安徽电气工程职业技术学院(毕业论文)安徽 电气 工程 职业 技 术学 院毕业论 文、 实习报 告题 目系 部专 业姓 名班 级学 号指导教师教师单位题目类型 毕业论文 实习报告年 月 日目录第一章 绪论1.1、 我国能源的现状 1.2、 新能源的开发与应用 1.3、 太阳能电池的...
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文件编号 代 号 T45 总 页 数 共 页GM6802 型(单路镍氢电池快速充电管理芯片)数据手册版 本 号 拟 制 审 核 批 准 成都国腾电子技术股份有限公司 年 月 日DATA SHEET GM6802 单路镍氢电池快速充电管理芯片2008.11 成都国腾电子技术股份有限公司成都国腾电子技术
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Battery Guide for Small Stand Alone PV Systems. IEA PVPS Task III 9 91223_____________________________________________________________________________
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FORTIX 操作与维修手册FORTIX 操作与维修手册 - 1 -- 1 -FORTIX 操作流程1. 开机然后将 FORTIX 机台电源( MAIN POWER)打开将 FORTIX 主机和 SEMILAB 主机的 UPS 电源分别打开,机 台 电 源开关FORTIX 主机UPS 电 源 开关F
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PLC 技术在太阳能硅片清洗机控制上的应用[摘要 ] 文章介绍了 PLC 的结构和工作原理,概述了太阳能硅片清洗机的结构和工艺流程,对 PLC 在太阳能硅片清洗机控制上的应用可行性进行了探讨, 对 PLC控制太阳能硅片清洗机梯形图及程序进行了分析,对太阳能硅片清洗机采用...
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半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后, 其表面已受到严重沾污, 一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清...
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收稿日期 2003-12-08; 定稿日期 2004-01-20文章编号 1004-33652004 05-0565-04VG 202MKII 精密硅片减薄机调试技术陈洪波 , 熊化兵 模拟集成电路国家重点实 验室 ; 中国电子科技集团公司 第二十四研究所 , 重庆 400060摘 要 VG
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半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污 运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗...
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半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理 切削液 金属 加工液 y ;F aK U*L9M- r6r硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污...
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超大规模集成电路制造中硅片平坦化技术的未来发展作者 郭东明 , 康仁科 , 苏建修 , 金洙吉作者单位 大连理工大学机械工程学院 ,大连 ,116024刊名 机械工程学报英文刊名 CHINESE JOURNAL OF MECHANICAL ENGINEERING年,卷 期 2003, 3910引用
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大尺寸硅片磨削技术2017-08-23 磨削系统解决方案 微信摘 要 集成电路芯片不断向高密度、高性能和轻薄短小方向发展,发满足 IC 封装要求,图形硅片的背面减薄成为半导体后半制程中的重要工序。随着大直径硅片的应用,硅片的厚度相应增大,而先进的封装技术则要求更薄...
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