p采用热原子层沉积的方法,以三甲基铝(TMA)为铝源,配合 H2O、O3 及 H2OO3 这 3 种不同的氧化剂制备Al2O3 薄膜并研究Al2O3 薄膜的生长、元素分布、薄膜结构和表面钝化质量随氧化剂种类和后退火工艺的变化规律。 结果表明,H2O 基的 Al2O3 薄膜具有较高的沉积速率及...
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硅片在 HF/HNO3/H2O体系中的腐蚀速度作者 安静 , 孙铁囤 , 刘志刚 , 汪建强 , 苦史伟 , An Jing , Sun Tietun , Liu Zhigang ,Wang Jianqiang , Ku Shiwei作者单位 上海交通大学物理系太阳能研究所 ,上海 ,200240刊
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