光刻工艺(20180723095705) （14页）

光刻工艺过程一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。1、硅片清洗烘干（ Cleaning and Pre-Baking ）方法湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙（热板 150～ 2500C,1～ 2分 钟 ，氮气保护）目的 ...

下载价格：3 金币 / 发布人： 索比杜金泽 / 发布时间：2018-08-15 / 573人气