硅片清洗及最新发展 Ξ刘红艳 3 , 万关良 , 闫志瑞北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司 , 北京 100088摘要 对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、 清洗特点、 清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述。 介绍了...
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-21 / 385人气