硅片清洗工艺采用 RCA方法, 这是半导体行业硅片的标准清洗步骤1 配制氢氟酸溶液( 1 20,本次 100ml2000ml )2 硅片支架清洗、吹干待用3 取硅片放于支架上,按照顺序放好4 配 3#液(硫酸 H2O 231 ,本次 660ml 220ml ) ,硫酸最后加,同时另一容器煮水5 用
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 460人气