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湿化学表面处理对硅片表面粗糙度及界面态的影响-纪方旭（17页）

第 1页湿化学表面处理对硅片表面粗糙度及界面态的影响报告人纪方旭研究组中科院电工研究所太阳电池技术研究组第 2页第 3页数据来自 http//www.itrpv.net/ BSF 2017年 70以上，快速减少， 2028年 5左右。 PERC目前 20多，预计 2020年份

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第 27 卷第 7 期2006 年 7 月半导体学报CHIN ESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORSVol. 27 No. 7J uly ,20063 国家高技术研究发展计划资助项目批准号 2002AA3Z1110 通信作者 . Email cookiefile 12

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