硅片清洗技术半导体硅片 SC-2 清洗技术1 清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生,在酸性溶液中不易发生,并具有较强的去除晶片表面金属的能力,但经 SC-1 洗后虽能去除 Cu 等金属,而晶片表面形成的自然氧化膜的附着(特别是Al)问题还未解决。2 硅片表面经 SC...
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-21 / 299人气