单晶硅一次清洗工艺一次清洗的目的1. 去除切片时硅片表面产生的损伤层;2. 在硅片表面制备金字塔型绒面结构;3. 清除硅片表面的油类分子及金属杂质。一次清洗的工艺流程见图 1 所示图 1 一次清洗的工艺流程图1、硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加工...
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 449人气