光子晶体工艺流程一、主体说明本次研究的主要任务是利用硅片制作出多孔硅光子晶体, 研究主要内容是多孔硅的特点和制备方法,实验装置主要采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅。本次光子晶体的主体制备方案是先用低压化学气相淀积工艺在 Si 衬底上生成一层 Si 3N4 薄膜,...
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 485人气