光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上, 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3 ,耗费时间约占整个硅片工艺的 40~ 60。光刻机是生产线上最贵的机台, 5~ 15 百万...
下载价格:3 金币 / 发布人: 索比杜金泽 / 发布时间:2018-08-15 / 524人气