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硅片厚度测试仪样本

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硅片厚度测试仪样本

LE 1000-2 电子厚度测定仪采用最新测量技术特点最新式的高精度内部光学测量仪器。通过电缆释放装置( cable release)或空气压力连接柱塞驱动。适用于薄膜厚度、位移、位置及尺寸的精确测量。 LE 1000-2 是大部分测量应用的理想仪器。系统特点及优势系统高精度优于 0.2 μ m 固钢支架直径 80mm 的坚固钢圈及铸钢基座,适用于精确的重复测量。线性贯穿整个 12mm 或 25mm 的测量范围。操控简便提供控制器的用户友好设置界面,可设置单位及其它特性。压强极低 LE 1000-2 的修正版本可提供“最低压强” ,适用于薄膜厚度测定RS-232 输出可连接计算机或数据采集系统数据采集系统传输实时数据到 Excel, Access 或其它 Windows 适用程序,可同时将信息发送到CSV 磁盘文档 可选择 自动归零按钮仪器闲置时可自动归零,轻易实现测量的增减。柱塞驱动通过电力释放装置,或工作部件,或气压测量范围更长 60mm及 100mm适用LCD 显示可显示测量结果、设置参数及操控功能。完整的系统包括传感器、控制器、支架、钢索起重器 with MT12/25 及 std. 测量端型号 范围 精度 驱动 测量压力

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