【CITPV】SILEX_GENERIS PVD

pSINGULUS TECHNOLOGIESSingulus 湿 法 设 备 和 PVD设 备 在 HJT的 应 用韩 美 洲2019-09-06 杭 州 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 2 - nbsp; nbsp; nbsp;Outline 1 SINGULUS TECHNOLOGIES AG-公 司 介 绍2 HJT Solar Cell Process Flow-异 质 结 电 池 工 艺 流 程4 GENERIS PVD磁 控 溅 射 设 备3 SILEX II CLEANTEX-臭 氧 制 绒 湿 法 设 备 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 3 - nbsp; nbsp; nbsp;History SINGULUS TECHNOLOGIES FoundationSINGULUS TECHNOLOGIESErnst Leybold started his business in CologneCompany building 1860 19661851 1860 1967 1995LEYBOLD HERAEUSVacuum Technology, Metallurgy and Coating Unicorn Pharmacy was founded 1600 in HanauW.C. Heraeus took over business in 1851 and started with platinum 1851 MergerLEYBOLD / BALZERS 1966 E. Leybold Successor 1966 Heraeus Hochvakuum founded 1995 2007Acquisition SINGULUS STANGL SOLAR GmbHSingulus公 司 成 立 1995年 ， 技 术 前身 是 莱 宝 科 技 -真 空 镀 膜 的 鼻 祖 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 2019- 4 - nbsp; nbsp; nbsp;Confidential HeadquarterKahl am Main, Germany nbsp; nbsp;Production Site nbsp; nbsp;Frstenfeldbruck Munich, GermanyFranceSausheim Latin AmericaSao Paulo nbsp; nbsp; China nbsp; nbsp; GuangzhouAsia Pacific Singapore nbsp; nbsp; Taiwan nbsp; nbsp; TaipeihLegendSubsidiaries/Sales amp; ServicesHeadquarterProduction Site FrstenfeldbruckAgents SINGULUS TECHNOLOGIESSubsidiaries amp; Agents Worldwide nbsp; nbsp; China nbsp; nbsp; ShanghaiSingulus 全 球 的 分 布 SemiconductorOver 180Systems installed PhotovoltaicCrystaline and CISG ,CdTeOptical DiscOver 8.550systems installed Medical TechnologyMarket entry 2017First order received Consumer GoodsOver 20Systems installedEast CoastHeadquarter US, HartfordWest CoastSales and Service West Coast SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 5 - nbsp; nbsp; nbsp;SINGULUS TECHNOLOGIES Main Bussiness半导体 nbsp; 医疗光伏 nbsp; nbsp;装饰镀膜 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 6 - nbsp; nbsp; nbsp;SINGULUS TECHNOLOGIES Headquarters in Kahl/Germany总 部 所 在 地 -法 兰 克 福 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 7 - nbsp; nbsp; nbsp;Diversity of SINGULUS Sputtering ToolsSINGULUS GENERIS NDT DECOLINEVISTARISGen I Gen II Gen III HJT ROTARISTIMARISSingulus生 产 的 PVD各 种 应 用 总 台 数 超 过8000台 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 8 - nbsp; nbsp; nbsp;SINGULUS TECHNOLOGIES Manufacturing Location in Frstenfeldbruck/Germany德 国 慕 尼 黑 工 厂 -专 门 湿 法 设 备 生 产 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 9 - nbsp; nbsp; nbsp;Outline 4 GENERIS PVD3 SILEX II CLEANTEX1 SINGULUS TECHNOLOGIES AG2 HJT Solar Cell Process Flow SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 10 - nbsp; nbsp; nbsp;Texturing/cleaning a-Si Fr./Re. TCOFr./Re. Printing Fr./Re. HJT Solar Cell Process Flow GENERIS PVD SILEX IISingulus 提 供 4步 工 艺 中 的 2步 工 艺 设 备 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 11 - nbsp; nbsp; nbsp;Outline 2 HJT Solar Cell Process Flow4 GENERIS PVD3 SILEX II CLEANTEX1 SINGULUS TECHNOLOGIES AG SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 12 - nbsp; nbsp; nbsp;SILEX II CLEANTEX Batch platform for advanced texturing/cleaning Batch size 400 wafers e.g. M2-M4-M6 Throughput 6400/8000 wph gross SILEX II CLEANTEX6400/ 8000 湿 法 设 备 -大 产 能 8000片 /小 时 一 台 ----特 别 适 合 GW级 扩 产 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 13 - nbsp; nbsp; nbsp;Cleaning procedures for HJTNH 4OH H2O2 SDR Tex NH4OH H2O2 HF HNO3 HCl H2O2 HF DryDIO 3 SDR Tex DIO3 HF HF DryRCAO3 Preclean PostcleanStructuring ConditioningSC1 SC1 SC2先 进 臭 氧 工 艺 工 艺 创 新 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 14 - nbsp; nbsp; nbsp;Cleaning procedures for HJTNH 4OH H2O2 SDR Tex NH4OH H2O2 HF HNO3 HCl H2O2 HF DryDIO 3 SDR Tex DIO3 HF HF DryRCAO3 Preclean PostcleanStructuring ConditioningSC1 SC1 SC2 No NH4OH, H2O2 or HNO3 不 再 含 氨 水 ， 硝 酸 ， 双 氧 水 环 评 方 便 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 15 - nbsp; nbsp; nbsp;Advantage 1 清 洗 效 果 -工 业 化 验 证 Moldovan et al. FhG ISE on PVSEC-26，Oct. 2016清 洗 影 响 1.是 否 清 洗 干 净2.是 否 影 响 电 池 效 率 创 新 驱 动 力 p经 济 性 要 求p环 保 要 求 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 16 - nbsp; nbsp; nbsp;Advantage 2 臭 氧 机 -Singulus自 己 开 发 Singulus 自 己 开 发 的臭 氧 机 -满 足 大 容 量 消耗 的 需 求 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 17 - nbsp; nbsp; nbsp;€- nbsp;€50,000.00 €100,000.00 €150,000.00 €200,000.00 €250,000.00 €300,000.00 H2O2 KOH NH4OH Additive HNO3 DI-Water Power HF HCl CDA N2 O2 2800-RCA2800-O3195万元155万元63万元8万元Δ 571 k€/a 417万元/年 100MW RCA 100MW O3H2O2 nbsp; nbsp;266.992,19 € nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; - nbsp;€ KOH nbsp; nbsp;263.813,71 € nbsp;264.657,12 € NH4OH nbsp; nbsp;211.686,66 € nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; - nbsp;€ Additive nbsp; nbsp;171.478,91 € nbsp;172.027,13 € HNO3 nbsp; nbsp; 86.319,53 € nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; - nbsp;€ DI-Water nbsp; nbsp; 58.801,85 € nbsp; 58.989,84 € Power nbsp; nbsp; 38.380,13 € nbsp; 35.712,77 € HF nbsp; nbsp; 38.022,55 € nbsp; 39.459,42 € HCl nbsp; nbsp; 18.117,33 € nbsp; nbsp;7.573,02 € CDA nbsp; nbsp; nbsp;4.529,33 € nbsp; nbsp;4.543,81 € N 2 nbsp; nbsp; nbsp;1.152,20 € nbsp; nbsp;1.036,31 € O2 nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; - nbsp;€ nbsp; nbsp;3.826,37 € Total nbsp;1.159.294,37 € nbsp;587.825,78 € 846万元429万元10 MW RCA10 MW O 3 Advantage 3 Chemical Consumption-运 行 成 本 节 约每 年 省 417万 化 学 品 的 消 耗 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 18 - nbsp; nbsp; nbsp;Advantage 4 Disposal-污 水 处 理 问 题太湖/无锡，2017年9月 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 19 - nbsp; nbsp; nbsp;Advantage 4 Disposal-污 水 处 理 成 本 节 约 nbsp; O 3 vs. RCA No N-containing disposal Saving of waste treatment cost No eutrophication 无水体富营养化100MW-RCA 100MW-O3NH4-containing 3 6 8 m3 0NO3-1-containing 7 2 m3 nbsp;0 Cost difference RMB 170万NH4 氨氮NO3- 硝氮 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 20 - nbsp; nbsp; nbsp;Advantage 5 大 产 能 设 备 臭 氧 工 艺 Amortization 10 years SILEX II CLEANTEXConfiguration 100MW RCA2800 wph 100MW O32800 wph 250MW O36400 wphTotal CoO* €/wafer 0.067 0.040 0.036总体拥有成本*人民币/片5角3角2角7分成本节省- -41 -478000片 产 能 和 臭 氧 工 艺 ---进 一 步 降 低 运 行 成 本 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 21 - nbsp; nbsp; nbsp;Outline 2 HJT Solar Cell Process Flow4 GENERIS PVD1 SINGULUS TECHNOLOGIES AG3 SILEX II CLEANTEX SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 22 - nbsp; nbsp; nbsp;GENERIS PVD Overview-PVD介 绍 nbsp;在 线 镀 膜 设 备 ITO – 透 明 导 电 层 金 属 化 镀 膜 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 09-2018 - 23 - GENERIS PVD-模 块 化 的 设 计 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 09-2018 - 24 - PROCESS FLOW INLINE Double Sidewith CRS for GENERIS 6000 10000 Transfer3 Loading /Unloadingof Wafers Decreasing of pressure Increasing of pressure Process pressure 2-5 x10-3 mbarBase pressure2x 10-6 mbar Sputterchamber withmultipurpose Process Carrier Return System ExitBuffer 2Extension1 Prozess Extension2Load Buffer 1 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 25 - nbsp; nbsp; nbsp;降 本 要 求 6000片 每 小 时 或 10000片 每 小 时 SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 26 - nbsp; nbsp; nbsp;关 键 点 -自 动 化 上 下 料 机 -非 常 的 关 键Flexible Loading/Unloading ConfigurationLoading/unloadingLoading Unloading Loading/unloading single-side and double-side available Fexible choice according to factory and automation layout Contactless grip of wafers for minimal surface damage SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 27 - nbsp; nbsp; nbsp;关 键 点 载 盘 -M2/M4/M6 SINGULUS TECHNOLOGIES AG September 2017- 28 - nbsp; nbsp; nbsp;confidentialTemperature Uniformity /- 5 Fast Heat-up / switch on-off at Buffer chamber 1 Static heating for excellent temperature uniformity Keeping temperature process chamber关 键 点 -温 度 稳 定 性Temperature Homogeneity und Stability SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 29 - nbsp; nbsp; nbsp;关 键 点 -上 下 镀 膜 模 块 随 时 切 换Flexible Choice of Deposition OrderPower supply Cathod Cathod blocks are all lifted up in maintanence. Cathod blocks for top-down and bottom-up coating can be easily exchanged. SINGULUS TECHNOLOGIES AG 05-2018 - 30 - nbsp; nbsp; nbsp;关 键 点 --带 气 体 隔 离 模 块Separation of Deposition Processes Gas separation unit is available Coating processes for top-down and bottom-up can be adjusted independently. Maximal degree of freedom for process optimization and upgradeTop-down coating Bottom-up coatingGas separation unit工 艺 窗 口 更 宽/p