Archers Ins新型TCO设备应用前景展望update（无锡异质结论坛）.pptx

精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS 精曜科技 Enabling Innovation 新型 TCO镀膜 设备在光伏产业应用展望 （ 2019年 3月无锡论坛） 精曜 科技 闫峰 2019.3.20 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 精曜科技简介 2 成立 2008年 8月 12日，注册于英属开曼群岛 主营业务 经过 10年的 精進 发展，精曜公司已成长 为一家全球重要的 真空镀膜 设备 公司； 公司有自主设备开发有力，主要产品包括 PECVD设备、 RPD设备、 LPCVD设备、自动化设备 等； 业务拓展领域包括太阳能电池 、平板显示、 IC等产业 ，并为相关产 业提供关键 生产 设备。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 精曜设备应用于太阳能技术的领域 3 异质 结 PECVD RPD 铜铟 镓锡 LPCVD 钙钛 矿 RPD LPCVD 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 6年来市场业绩 4 太阳能电池 技术种类 向相关市场提 供的设备 工艺站点 数量 量产效率 异质结 RPD TCO 4 ＞ 23 PECVD 非晶硅层 2 ＞ 23 铜铟镓锡 LPCVD TCO 21 17 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 新型镀 膜设备 RPD 5 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 传统 TCO技术 Sputter原理 6 Ar气在高电压下电离产生 Ar Ar受到电场与磁场引导 Ar打到靶材上 靶材原子下落 沉积在衬底上 特点  工艺温度高（ 150度以上）  沉积速率较慢  对非晶硅轰击较强  薄膜结晶度低，粗糙度较高  薄膜透过率较低，电阻率高 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 新型 TCO技术 RPD原理 7 等离子体枪中产生 Ar Ar进入到生长腔室 磁场引导 Ar打到靶材上 靶材升华 再沉积在衬底上 优点  工艺温度低（常温）  沉积速率快  对非晶硅轰击弱  薄膜结晶度高，粗糙度低  薄膜透过率高，电阻率低 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD vs Sputter 8 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 1 低 离子轰击 9 RPD SPT Ref. to the paper of Pf. Sugai of Nagoya Univ. *Low ion energy prevent a-Si/TCO interface from bombardment damage 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 2优异的结晶特性 10 RPD Ra, 0.7nm SPT Ra, 2nm Ref. to the paper of Pf. Shigesato. *RPD gives strong crystalline prefer orientation and smooth surface 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 11 mobility80 cm2/Vs High mobility and low IR absorption RPD的 优点 3 优异短路电流（基于 IWO 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 3优异短路电流（基于 ICO 12 mobility130 cm2/Vs High mobility and low IR absorption Eiji Kobayashi and Yoshimi Watabe, 29th EuPVSEC σ neμ ;μ ↑ -n↓ λ PC/ne2/m*ɛ01/2; n↓ -λ P↑ RPD SPT 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 13 公司 效率 国家 面积（ cm2） TCO 沉积技术 松下 24.70 日本 100,厚度 98um IWO RPD kaneka 24.20 日本 171 IOH RPD CIC 24.10 日本 156单晶 IWO/ICO RPD 晋能 24 中国 156单晶 IWO RPD AUO 23.10 中国台湾 240 IWO RPD 赛昂 23.10 USA 240 IOH Sputtter 东芝 EC 23.40 日本 240 IOH Sputter 上澎 待补充 中国 156单晶 IWO Sputter MB 22.80 德国 240 ITO Sputter CSEM 22.80 欧洲 240 ITO Sputter CEA-INES 22.80 欧洲 229 ITO/IOH Sputter EPFL 22.40 欧洲 4 ITO Sputter 市场上有关 HJT电池 TCO设备使用 情况 注此页内容均来不同时期公开发表的资料，然因整理仓促，个别数据可能有些许出入，业内同仁可协 助修正。 无论是 在实验开发 ， 或是在批量生产中 ， 因 TCO站采用不同 的设备和工艺 ， 异 质结 电池实验效率 或量产效率均有着 明显差异 。 从国内外研发机构 和电池厂商发表的 数据结果看 ， RPD 制备下的异质结电 池总体比 PVD约有 0.5 1的效率优 势 。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD vs. PVD on cells performance  2018年某国内客户量产数据统计， RPD比较传统 PVD设备可提高 0.4的 绝对值 效率  目前 RPD站的工艺开发尚处于初级阶段，后续提升空间较大 RPD vs. sputter 电池对比 基于 ITO与 IWO sputter RPD RPD gain Isc a a0.15A 1.59 Voc b b2mV 0.27 FF c c0.05 0.06 Eff d d0.4 1.83 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 精曜 RPD系统 反应式等离子镀膜设备 Item Standard 2 Guns tray size 1140 mm x1290 mm Wafers/tray 35 pcs 5 x7 Cycle time 48 secs UPH 2625 pcs/hr Dimensions 6.2 m x 12 m x 2.2 m LC BC1 TR1 TR2 TR3 BC2 ULC  RPD设备已经 过 10余年 的量产验证  Panasonic 1GW HJT全部使用 RPD镀膜设备  住友重工 授权 精曜 全球制造与销售 15 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 16 RPD和 PVD的电性能对比 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 精 曜 RPD设备 - 高产品良率 量产良率稳定在 98以上，平均 98.5以上。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com RPD與 PVD量产 成本 比較 2018测算模型 PVD RPD RPD 电池效率 22.5 23.0 23.0 组件成本（元 /瓦） 2.18 2.13 2.13 组件功率（瓦） 317 324 324 售价（元 /瓦） 2.5 2.5 2.6 毛利 12.68 17.64 22.35 电池产能 MW 97.86 100 100 组件产能 MW 94.93 97.00 97.00 总收益（亿元） 2.37 2.43 2.52 毛利（亿元） 0.30 0.43 0.56 100MW RPD设备 价差 ， 约在 一年 内 回收 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 产业合作促进技术进一步升级 19 设备产能提 升及附助技 术精进 提升自动化 设备匹配度， 满足高产能 需要 靶材成本降 低和靶材技 术升级 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar Summary  RPD工作原理采用高密度低能量离子束，而非高电压动能驱动。 RPD制备下，离子轰击 能量 80 cm2/Vs， 优于 PVD  RPD制备下，低 自由载子吸收 确保有 高的长波 长穿透率  RPD量产中比较 传统 sputter设备可提高 0.4的绝对值效率（基 于溅射 ITO  RPD设备 及工艺的 改善 空间大 ， 将可进一步 提高产能，降低生 产成本 精 曜 RPD 帮助客户 赢在 高效率、低成本的起跑线 20  RPD与 PVD相比 ， 属于 HJT电池 生产 TCO站的跨 跃性升级 技术 ， 其 可帮助 HJT拉大与 PERC、 Topcon等 技 术的效率差距 ， 保持 HJT电池在效率上的绝对领先 性 ， 提高 HJT电池组件的综合性价比和市场活力 。 精 曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精 曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 谢谢 21