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PLC 技术在太阳能硅片清洗机控制上的应用[摘要 ] 文章介绍了 PLC 的结构和工作原理,概述了太阳能硅片清洗机的结构和工艺流程,对 PLC 在太阳能硅片清洗机控制上的应用可行性进行了探讨, 对 PLC控制太阳能硅片清洗机梯形图及程序进行了分析,对太阳能硅片清洗机采用...
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半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后, 其表面已受到严重沾污, 一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清...
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收稿日期 2003-12-08; 定稿日期 2004-01-20文章编号 1004-33652004 05-0565-04VG 202MKII 精密硅片减薄机调试技术陈洪波 , 熊化兵 模拟集成电路国家重点实 验室 ; 中国电子科技集团公司 第二十四研究所 , 重庆 400060摘 要 VG
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PVD F 太阳能电池硅片花篮的研制3孙卫东 ,黄 萍 ,王 华 ,朱道峰 ,刘哲伟 ,刘秋晨北京市塑料研究所 ,北京 100009 摘要 论述了采用注射成型方式 ,对装载方形太阳能硅片的花篮进行研制的过程 。详细介绍了花篮原材料选择 、 模具设计 、 收缩率的确定 、 可熔融性氟塑料...
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环球市场 / 电力工程- 112-半导体硅片的品质工艺与产品质量宋艳彤天津中环半导体股份有限公司摘要 半导体技术是一个国家科研、生产能力的集中代表,是未来社会与建设自动化和智能化的基础型技术。由于国家政策上和经济上的大力支持,一段期间内国内成立了大量的半导...
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半导体硅片的化学清洗技术一 . 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类A. 有机杂质沾污 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污 运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗...
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Semiconductor Technology Vol. 29 No. 8August 2004 531 引 言随着 ULSI 技术的不断向前发展,对半导体硅的表面性质要求也越来越严格。 而且电路的集成度日益提高,单元图形的尺寸日益微化,污染物对器件的影响也...
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半导体材料硅片的磨削方法及装置 3侯江华河南机电高等专科学校 教务处 ,河南 新乡 453002 摘要 硅片是半导体器材的主要元件 ,在印刷集成电路及微型集成仪表中有着广泛应用 。文章在分析物理 - 化学加工硅片方法存在的问题的基础上 ,讨论了磨料悬浮磨削及粘接磨料磨...
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专业编制可行性研究报告 了解更多详情 咨询公司网址 http//www.ztxdzx.com 因 为 专 注 所 以 专 业- 1 - 半导体硅片抛光液项目可行性研究报告核心提示 半导体硅片抛光液项目投资环境分析, 半导体硅片抛光液项目背景和发展概况, 半导体硅片抛光液项目建设的必要性...
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1 *********** 学院课 程 设 计题 目硅片清洗工艺的原理和现状专 业 光伏材料加工与应用技术班 级学生姓名院 系 光伏材料系指导教师日 期 2013 年 10 月 07 日2 半导体硅片清洗工艺的发展研究【摘要】随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 线宽的不断减小...
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