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化学刻蚀制备黑硅材料的研究现状及展望 *李学 铭 1 , 2 , 廖承菌 1 , 2 , 唐利 斌 3 , 杨 培 志 1 , 2( 1 云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室 , 昆明 6 5 0 0 9 2 ; 2 云南师范大学太阳能研究所 , 昆明 6 5 0 ...
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等离子体刻蚀 邵爱军邵爱军 1 什么是等离子体 随着温度的升高,一般物质依次表现为固 体、液体和气体。它们统称为物质的三态 。 当气体的温度进一步升高时,其中许多, 甚至全部分子或原子将由于激烈的相互碰 撞而离解为电子和正离子。这时物质将进 入一种新的状态...
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湖南红太阳光电科技有限公司 文件编号 UMGD/ZLPG-DJ-26-2012 等离子刻蚀设备操作规程版号 A 修改第 0 次页 码第 1 页 共 2 页编制宇树光 审核 批准 / 日期1 1. 目的确保刻蚀机处于良好的运行状态。2. 适用范围刻蚀机操作及保养。3. 参考设备管理程序。4. 责任由设
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基础知识 HOW TO MAKE A CHIP52 www.sichinamag.com→集成电路的制造过程中,刻蚀就是利用化学或物理方法有选择性地从硅片表面去除不需要的材料的过程。从工艺上区分,刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀。前者的主要特点是各向同性刻蚀; 后者是利用等离子体来进行各向...
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