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拟制 审核 批准 日期 部门单位东磁太阳能 第 1 页 共 8 页 版本A1.1 编号Q/DM18 技 8.01-2010 PECVD 工艺文件 1. 原理 4.1 PECVD 技术原理 PECVD 等离子体增强化学气相沉积,是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离 子体,而等
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PECVD 工艺腔加热功率调整方法说明 张小亮 2013-08-08 工艺腔加热模块组成简述 调整方法说明 加热功率对工艺腔温度分布的影响 工艺腔加热模块组成简述( 1) 加热板内部加热电阻结构如下 加热电阻 1----1A 加热电阻 2----2A 加热电阻 3----3A 工艺腔加热板分布如
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用于太阳电池的等离子体技术 中科院电工研究所 王文静 用于太阳电池的等离子体技术 PECVD技术 –制备晶体硅太阳电池的减反射和钝化膜 –用于电池片边缘的刻蚀 –非晶硅薄膜制备技术 –非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的制备 磁控溅射技术 –制备晶体硅太阳电池的减反射...
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管式 PECVD 流量对太阳电池氮化硅膜影响的工艺研究 来源深圳市大族光伏科技股份有限公司 作者 李军阳 时间 2011-09-19 氮化硅膜作为晶体硅太阳能电池减反射钝化膜是目前太阳能电池制备的主流,然而由于用 PECVD 来制备的氮化硅膜,是以 SixNyHz 方式来表达的,其中的...
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centrotherm CESAR Recipe Description PECVD SiNx Deposition Version 2.0 Reg97, CAN EFM CESAR Recipe Description PECVD SiNx 03.11.2009 © centrotherm 1
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