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RCA标准清洗步骤

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RCA标准清洗步骤（1页）

硅片清洗工艺采用 RCA方法，这是半导体行业硅片的标准清洗步骤1 配制氢氟酸溶液（ 1 20，本次 100ml2000ml ）2 硅片支架清洗、吹干待用3 取硅片放于支架上，按照顺序放好4 配 3＃液（硫酸 H2O231，本次 660ml 220ml ），硫酸最后加，同时另一容器煮水5 用 3

下载价格：3 金币 / 发布人：索比杜金泽 / 发布时间：2018-08-15 / 612人气

RCA标准清洗步骤(20180720145614)

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RCA标准清洗步骤(20180720145614) （1页）

硅片清洗工艺采用 RCA方法，这是半导体行业硅片的标准清洗步骤1 配制氢氟酸溶液（ 1 20，本次 100ml2000ml ）2 硅片支架清洗、吹干待用3 取硅片放于支架上，按照顺序放好4 配 3＃液（硫酸 H2O 231 ，本次 660ml 220ml ），硫酸最后加，同时另一容器煮水5 用

下载价格：3 金币 / 发布人：索比杜金泽 / 发布时间：2018-08-15 / 370人气

硅片RCA清洗

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硅片RCA清洗（3页）

The RCA clean is a standard set of wafer cleaning steps which needs to be performed before high temp processing steps oxidation , diffusion , CVD of

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