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二手投影光刻机的翻新改造作者 郑武作者单位 上海微高精密机械工程有限公司 ,上海 ,201203刊名 电子工业专用设备英文刊名 EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING年,卷 期 2004,333本文链接 http//d.g.wanfangda
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表 1 一刻 二刻400/-10 毫焦 /平方厘米500/-10 毫焦 /平方厘米备注曝光时间 曝光总量 / 曝光指数1.1. 烘箱温度、时间设定表 2 编号 烘箱 温度 时间1 硅片预烘(甩胶前预烘) 175 ℃ /-5 ℃ 60 分钟2 胶膜预烘甩胶后预烘 110℃ /-5 ℃ 30 分钟3
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光刻一、概述光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上, 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3,耗费时间约占整个硅片工艺的 4060 。光刻机是生产线上最贵的机台, 5~...
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光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。 主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上, 为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。 光刻的成本约为整个硅片制造工艺的 1/3 ,耗费时间约占整个硅片工艺的 40~ 60。光刻机是生产线上最贵的机台, 5~ 15 百万...
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光刻工艺认识实验报告一、光刻工艺操作1.硅片清洗和表面处理这个步骤由助教老师完成。所用硅片尺寸 2 英寸,厚度为 400μ m,单面抛光。掺杂类型 p 型。2.涂胶匀胶机第一、二级转速和各转速的运转时间由助教提前设置好。分别为 第一级转速 500n/min, 时间为 3 秒; ...
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