硅片腐蚀碱洗作业指导书

1 江苏淮安标准操作文件 编 号硅片腐蚀 （碱洗） 作业指导书版 本受控状态批 准 审 核 编 制日 期 日 期 日 期1 目的 使已经有污染的硅片腐蚀、清洗干净能用于拉制太阳能级单晶的原材料；2 使用材料HF（ 49） 、 NAOH（ 99） 、 HCL（ 37） 、片料、烘箱。3 常用工具、设备碱洗蓝、漂洗槽、超声波发声器、纯水、烘箱、封装机等。4 操作步骤4.1 彩片用 HF浸泡 5 小时左右，用自来水洗净；4.2 把洗过的彩片和片料放入配置 30-35的 NAOH溶液中 3 分钟（当中要不停的搅拌） 。迅速的放入纯水中反复冲洗（ 2 分钟） ；4.3 把碱洗好的片料放入配置好的 HCI 槽内（浓度为 18）反复搅拌洗（ 5 分钟） 。用纯水反复冲洗（经过 3 个漂洗槽，每槽 5 分钟时间） ；4.4 放入超声波清洗时间为 15 分钟，在经过两个漂洗槽漂洗（各漂洗时间为 5 分钟） ；4.5 放入烘箱烘 4 小时，温度为 100 度；4.6 打开烘箱等料完全冷却取出挑选合格产品包装；